판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZVFN #9092860
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ID: 9092860
웨이퍼 크기: 8"
Furnace, 8"
Process capability: TiSi
Zones: 5
Controller model: TS4000
Process gases: N2, N2
CE mark: Yes
Accessories: CVD system, loadsize 100, VMU heater.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZVFN은 고도로 엔지니어링 된 재료 생산에 사용하도록 설계된 확산 로입니다. 다재다능하고 신뢰할 수있는 용광로로, 다양한 산업에서 사용됩니다. TEL 알파 81-ZVFN (TEL Alpha 81-ZVFN) 은 챔버 크기가 편리하고 도어가 넓어 생산 과정에서 쉽게 액세스 할 수있는 수직 용광로입니다. 가스 분포 시스템은 일관된 처리를 위해 균일 한 온도를 보장합니다. 이 용광로에는 고급 기술 (Advanced Technology) 이 장착되어 있어 운영 효율과 정확한 제어가 용이합니다. 최신 기능을 사용하면 자동 압력 스윙 제어, 화씨 1 ~ 10,000 분의 1의 주기 정확도 및 선택 가능한 매개 변수에 대한 실시간 온도 제어가 가능합니다. 따라서 장기간 데이터를 정확하게 제어할 수 있습니다. 최적 진공계를 설계의 일부로 사용하면 TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZVFN이 에너지 효율성을 향상시킬 수 있습니다. 하드웨어는 더 복잡한 어플리케이션을 위해 다양한 다양한 가스와 호환됩니다. 퍼니스는 또한 디지털 디스플레이 (digital display) 를 통해 운영자가 전면 패널의 설정을 쉽게 조정할 수 있습니다. 알파 81-ZVFN (Alpha 81-ZVFN) 에는 생산 프로세스를 개선하기 위해 사용할 수있는 다양한 액세서리가 제공됩니다. 이 중 일부에는 냉각 팬, 통로 파이프 및 가스 용량 탱크가 포함됩니다. 냉각 "팬 '들 은 높은 활동 기간 에" 챔버' 내부 를 오염 시키지 못하게 하고 통로 "파이프 '는" 가스' 가 "시스템 '을 통하여 자유 롭게 움직 일 수 있게 한다. "가스 '용량" 탱크' 는 사용 할 수 있는 "가스 '의 양 을 증가 시킬 수 있으며, 또한 주" 가스' 로부터 멀리 떨어진 안전 한 "컨테이너 '에 유해 한" 가스' 를 저장 하는 데 사용 된다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZVFN은 다양한 생산 프로세스에 사용하도록 설계된 신뢰할 수있는 확산 로입니다. 고급 기능과 액세서리를 통해 효율적인 운영, 정확한 제어, 향상된 에너지 효율성을 실현할 수 있습니다. 디지털 디스플레이 (Digital Display) 를 포함하고, 전면 패널의 설정을 조정하는 기능을 통해 이 용광로 (Furnace) 는 안정적이고 정밀한 생산용 장비를 필요로 하는 사용자에게 적합한 옵션으로 만들 수 있습니다.
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