판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA #9092856

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA는 확산 로와 동반 액세서리이며, 반도체 기판 처리를 위해 강력한 올인원 장비입니다. 이 시스템은 저온 산화, 고온 산화물 성장, 저온 도펀트 증착, 고온 증착 이온 임플란테이션을 수행 할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 소프트웨어와 배치 (Batch) 에서 단일 웨이퍼 (Single-Wafer) 로드에 이르는 프로세스를 수행할 수 있는 기능을 갖춘 인체공학적으로 설계된 Control Station 이 장착되어 있습니다. 용광로 챔버 (furnace chamber), 즉 용광로 챔버 (furnace chamber) 는 강철 프레임에 장착되며 제어 된 석영 석영 내부 라이너와 2 개의 반으로 구성된 외부 껍질이 있습니다. 평평한 상단을 가진 원통형 모양이며 최대 16 개의 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 용광로 챔버 (furnace chamber) 는 챔버 상단에 매달린 일련의 텅스텐 코일 (tungsten coil) 에 의해 가열되며 고주파 전원 공급 장치에 의해 구동됩니다. 유지 보수 및 교체를 위해 코일이 자동으로 제거됩니다. "코일 '에 연결 된 제어기 인 용광로" 컨트롤러' 에 의하여 약실 의 온도 가 조절 되는데, 이 기계 는 "코일 '에 동력 을 공급 하고" 탐지기' 로부터 받은 신호, 온도 보정기 및 "오븐 '" 컨트롤러' 의 신호 를 열전대 "게이지 '로부터 얻은 원하는 온도 로 변환 시킨다. 퍼니스 컨트롤러는 프로세싱의 각 단계에 대해 서로 다른 프로파일로 프로그래밍 할 수 있습니다. 또한 용광로 컨트롤러에는 인터 록 (interlock), 경보 (alarm), 경고 (warning) 등의 안전 및 보안 기능이 장착되어 있습니다. 이 도구에는 챔버에 연결된 배기 밸브 (exhaust valve) 에셋이 포함되어 있으며 공기 흐름을 측정하기 위해 팬 구동 플로우미터 (fan driven flowmeter) 가 장착되어 있습니다. 배기 "밸브 '는 환경 을 용광로 내부 의 고온 으로부터 멀리 떨어뜨리는 역할 을 하며, 방출 되는" 가스' 의 양 을 제한 함 으로써 오염 을 방지 한다. TEL Alpha 81-ZA에는 챔버에 연결된 액체 냉매 모델과 완전 자동화 된 펌프 장비가 포함되어 있습니다. 용광로 챔버 내에는 온도 및 압력 판독을위한 가스로 가득 찬 튜브가 있습니다. 냉장고 는 "챔버 '를 냉각시켜 온도 를 바꿔야 할 때 에 신속 한 회복 시간 을 허용 한다. TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA 는 반도체 업계에서 효율적이고 비용 효율적인 솔루션으로, 까다로운 어플리케이션을 위한 다용도, 정확한 처리 기능을 제공합니다. 인체 공학적으로 최적화된 제어 시스템, 단순한 사용자 인터페이스 (user interface), 다양한 고급 기능을 갖춘 Alpha 81-ZA (Alpha 81-ZA) 는 처리 능력을 향상시키려는 모든 실험실을 위한 완벽한 선택입니다.