판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA #9092855

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA
ID: 9092855
웨이퍼 크기: 8"
Furnace, 8" Process capability: Pyro Zones: 5 Process gases: N2, H2, O2, DCE Controller model: TS4000 Accessories: Atmospheric system, loadsize, 100, VMU heater CE mark: Yes.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA는 고급 확산 로이자 반도체 웨이퍼 생산 과정에서 사용되는 특수 액세서리 세트입니다. 이 확산은 LPCVD (low-pressurechemical vapor deposition) 기술을 사용하므로, 특별히 구성된 챔버 및 난방 요소가 웨이퍼 표면에 실리콘 변형을 도입하는 데 사용됩니다. Alpha 81-ZE는 단일 챔버, 난방 요소, 진공 시스템 및 다양한 컨트롤 및 전원 공급 장치로 구성됩니다. 단일 챔버 (single chamber) 는 원통형 설계이며 오염을 방지하기 위해 특별한 내부 안감이있는 스테인리스 스틸 (stainless-steel) 로 만들어졌습니다. 챔버는 고주파 유도 공정을 사용하는 유도 형 난방 요소에 의해 가열됩니다. 이 유도 형 난방 요소는 또한 확산 과정에 대한 정확한 제어를 위해 600 ° C ~ 1300 ° C 사이의 조절 가능한 온도 범위를 특징으로합니다. TEL 알파 81-ZA (Alpha 81-ZA) 는 확산 과정에 필요한 챔버에 다른 가스의 도입을 제어하는 진공 시스템에 의해 운영된다. 진공계 (vacuum system) 는 또한 챔버의 압력을 제어하는데, 최적의 결과를 위해 특정 수준으로 유지해야합니다. 또한, 다양한 제어 장치 (Control Unit) 와 전원 공급 장치를 사용하여 필요에 따라 확산 프로세스를 면밀히 모니터링하고 조정합니다. 품질 출력을 보장하기 위해 TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA는 다양한 안전 측정도 제공합니다. 여기에는 온도 센서, 압력 센서, 안전한 조건을 보장하는 과압 및 진공 밸브가 포함됩니다. 알파 81-ZA (Alpha 81-ZA) 에는 중복 컨트롤이 포함되어 있어 확산 프로세스가 지속적으로 모니터링되고 제어됩니다. 추가 보너스로 TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA는 성능을 향상시키고 사용자 정의하는 특수 액세서리 세트도 제공합니다. 이러한 액세서리에는 공기 청소, 예방 유지 보수, 예비 부품, 제조 도구, 측정 및 분석 기기를위한 액세서리가 포함됩니다. 이러한 각 액세서리는 TEL Alpha 81-ZA가 최적의 수준에서 작동하도록 보장하고 고품질 반도체 웨이퍼를 생성합니다. 요약하면, TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA는 고급 확산 로이자 반도체 웨이퍼 생산 과정에서 사용되는 특수 액세서리 세트입니다. 이 확산은 저압 화학 증기 증착 (LPCVD) 기술을 사용하며 다양한 컨트롤, 전원 공급 장치, 안전 측정 및 특수 액세서리를 갖추고 있습니다. 이 용광로 (furnace) 와 많은 액세서리 (accessory) 는 반도체 웨이퍼 생산 프로세스에 효과적이고 안정적인 솔루션을 제공합니다.
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