판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 801D #293806761

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 801D는 집적 회로 (IC) 및 이산 반도체 구성 요소 제조에 사용되는 확산 로와 액세서리 제품군입니다. 고속 (High Speed), 높은 반복성 (High Repeatability), 높은 결과의 균일성을 특징으로 하는 고급 집적 회로 구성 기술을 구동하도록 설계되었습니다. TEL Alpha 801D에는 여러 구성 요소가 포함되어 있습니다. 모든 구성 요소에는 사용자 입력 및 운영자 피드백용 터치 스크린 컨트롤러가 포함됩니다. 사용자는 프로세스 시퀀스를 프로그래밍하고, 실시간으로 설정을 변경할 수 있습니다. 이를 통해 특정 기술을 사용자 정의할 수 있습니다. 용광로는 가변 지원 높이를 가진 수평 구성 석영 튜브 (quartz tube) 를 갖춘 외부 캐비닛으로 구성됩니다. 수직 및 수평 방향을 조정하여 프로세스 균일성을 높일 수 있습니다. 석영 튜브에는 2 개의 이중 단계 축 흐름 팬이 장착되어 있어 느리고 빠른 흐름 (빠른 연간) 을 허용합니다. 용광로에는 또한 H2, 형성 가스, N2, Ar 또는 S-2로 자동으로 시스템을 에너지 공급할 수있는 가스 장비가 포함되어 있습니다. 용광로는 최대 공정 온도 1150 ° C의 최대 300mm까지 웨이퍼 크기를 위해 설계되었습니다. 확산 장치에는 전원 공급 장치, 소스 및 웨이퍼 홀더가 포함됩니다. 전원 공급 장치는 중형 주파수 인버터 (Medium Frequency Inverter) 및 고속 스위칭 기술을 활용하여 높은 정밀도 프로세스 제어를 지원합니다. 이 소스에는 고밀도 저항 목표와 동력 석영 튜브 (Motorized Quartz Tube) 가 포함되어 있으므로 수동 변경 없이 붕소, 실리콘, 포스포 (Phosphor) 와 같은 대상 재료를 전환 할 수 있습니다. 웨이퍼 홀더는 긍정적 인 압력과 평평함 제어를 위해 설계되었습니다. 홀더는 전동식 베이스 (Motorized Base) 와 다중 영역 히터 머신 (Multi-Zone Heater Machine) 을 사용하여 여러 웨이퍼에서 독립적으로 온도를 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Alpha 801D는 제어 도구와 원격 사이트 간의 무선 통신을 제공합니다. 따라서 데이터, 프로그래밍, 프로세스 모니터링 등을 실시간으로 공유할 수 있습니다. 중요한 프로세스 매개변수를 모니터링하는 데 사용할 수 있는 검사 에셋도 포함되어 있습니다 (영문). Alpha 801D 확산 용광로 및 액세서리 제품군은 IC 및 반도체 작업에 강력하고 안정적인 도구입니다. 자동화, 높은 정밀도, 향상된 균일성을 제공하여 효율성 및 출력을 향상시킵니다. 이 모델은 매우 큰 웨이퍼 (wafer) 크기로 설계되어 다양한 어플리케이션에 적합합니다.