판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9383406

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i는 확산 용광로 및 액세서리를 포함하는 고도의 반도체 제조 도구입니다. 이 툴은 고급 성능을 갖춘 반도체를 생산할 수 있는 최신 하이엔드 기술을 제공합니다. TEL ALPHA-303I 도구는 고급 용광로 및 액세서리를 갖추고 있어 고급 반도체 생산 공정에서 신뢰할 수있는 도구입니다. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I 확산 로는 균일성 (uniformity) 및 균일성 (non-unifority) 부품의 온도 및 플럭스에 대한 정확한 도량형과 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 퍼니스는 강력한 방사선 모니터링 및 고급 제어 열 어닐링 (thermal annealing) 으로 제작되어 뛰어난 프로세스 제어를 제공합니다. 고순도 석영 인 시투 (in-situ) 용광로는 고급 웨이퍼 균일성을 제공하며, 통합 패키지에서 확산 매개변수를 정확하게 제어합니다. 확산 온도는 다양한 모니터링 시스템으로 정확하게 모니터링되고 유지됩니다. 또한 ALPHA-303I는 정확한 닫힌 루프 웨이퍼 제어를 갖춘 UCS (Universal Clamp System) 를 통해 웨이퍼 배치 정확도를 향상시킵니다. UCS는 웨이퍼 크기를 저장하고 각 크기에 대한 매개변수를 자동으로 조정할 수 있습니다. UCS는 또한 여러 기판에 걸쳐 웨이퍼 배치 최적화 및 표준화를 지원합니다. 이 도구 는 또한, 기판 을 처리 하고 적재 할 때 안전 하게 작동 할 수 있도록, 중요 한 안전 (safety) 기능 을 가지고 만들어졌다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 또한 pyrometer, 질소 장치, 스크러버, 히터/프리 히터, 서셉터 및 열 배기와 같은 확산 프로세스에 필요한 다양한 액세서리 품목이 제공됩니다. "피로미터 '는 확산" 파라미터' 를 감시 하고 유지 하는 데 사용 되고, 질소 단위 는 확산 과정 중 에 기판 을 식히는 데 사용 된다. 스크러버는 필름 표면을 청소하고 접촉 오염을 제한하는 데 사용됩니다. 서셉터는 산화 및 분해로부터 필름을 함유하는 데 사용된다. 열 배기 (thermal exhaust) 는 확산 과정에서 생성 된 모든 가스를 적절한 수집 영역으로 통풍하는 데 사용됩니다. TEL ALPHA 303 I (TEL ALPHA 303 I) 는 반도체 생산에 필수적인 다양한 기능과 액세서리를 제공하는 고급 프로세스 제조 도구입니다. 알파-303 I (ALPHA-303 I) 는 균일성 (unifority) 및 불균일성 (non-unifority) 부품을 모두 허용하는 기능을 통해 뛰어난 프로세스 제어를 달성하기 위해 필요한 확산 매개변수를 정확하게 제어합니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I에 통합 된 최신 하이엔드 기술은이 장치가 신뢰할 수있는 도구 플랫폼에서 뛰어난 성능을 제공한다고 확신합니다.