판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9357815
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ID: 9357815
웨이퍼 크기: 12"
LP P-Doped poly furnace, 12"
Process: D-Poly-small flow
Boat operation: (2) Boats
ASYST / ATR9100
Furnace unit:
Heater type: VMM-56-002 5 zones / 500°C -1000°C
T/C For over temperature protection: Kit, chamber O.H.SNSR
Temperature controller: MA901-8FK09-Z250A
Wafer / Carrier handing:
Wafer type: Semi standard notch, 12"
Carrier type: FOUP / 25-Slots
(16) Carrier storages
Fork type / material: 1+4 / Al203
W/T Wafer I/F speed (U/D)
Wafer loading / Unloading sequence: ED => P => M / M => P => ED
Boat / Pedestal:
Production wafers: (100) Wafers
Boat material: SiC with CVD-coat
Boat type: (117) Slots ladder, 8mm
Boat rotation
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Quartz outer and inner tube
Inner type: Straight
Internal T/C type
Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Fab constraint:
Waves system controller
Front operation panel
Front MMI and gas flow chart: MMI and GFC
General pressure display unit: Pressure-Mpa / Vac-Torr
Gas cabinet exhaust display unit: SI (Pa)
Furnace temperature controller: M560A
Vacuum system:
Main valve: CKD VEC
Vacuum exhaust system
Vacuum pressure controller: CKD VEC
Vacuum gage:
Pressure control: MKS Capacitance manometer
Press monitor: MKS Capacitance manometer (133 kPa)
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Basic style: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel / Electrical-polish (STD)
FUIJKIN Manual valve
FUIJKIN Air-operated valve
MYKROLIS Filter
VERIFLO Regulator
Soft backfill injector
MFC:
SiH4: 3 SLM
PH3: 500 SCCM
PH3: 50 SCCM
PH3: 30 SCCM
ClF3: 5 SLM
N2: 3 SLM
(4) N2: 5 SLM
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i는 IC 관련 생산에 사용하도록 설계된 고성능 확산 용광로 장비입니다. 첨단 난방 시스템 (Advanced Heating System) 을 탑재하여 보다 빠르고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 용광로는 장기간의 신뢰성과 정확성을 보장하기 위해 단단하고 두꺼운 스테인레스 스틸 (stainless steel) 로 제작되었습니다. 여기에는 자동 샘플 전송 장치 (Automated Sample Transfer Unit) 가 포함되어 있어 용광로에 매우 높은 속도로 샘플을 배치 할 수 있습니다. 성능 측면에서 TEL ALPHA-303I 는 1 분 안에 최대 900 ° C 의 빠른 발열 시간을 수행 할 수 있습니다. 방열 과정 전반에 걸쳐 매우 균일한 온도를 보장하는 혁신적인 온도 조절 머신 (temperature control machine) 이 장착되어 있습니다. 매우 큰 기판 으로 작업 하는 경우 에도, 그 도구 는 어떤 불일치 도 없이, 일관성 있는 온도 를 유지 할 수 있다. 또한, TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I에는 전력 소비를 줄이고 고품질 온도 제어를 제공하는 고급 전자 전력 제어 자산이 장착되어 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I에는 성능을 향상시키기 위해 다양한 추가 기능이 포함되어 있습니다. CVD (Integrated Chemical Vapor Deposition) 모듈은 전기 기판의 맞춤형 도핑을 가능하게하여 IC 관련 생산에 이상적인 선택입니다. 이와 함께, 그것은 또한 석영 보트, 세라믹 커버, 벨 항아리와 같은 다양한 액세서리를 포함합니다. 이러한 애드온은 향상된 방열 분배 (heat up distribution) 를 통해 장치의 성능을 더욱 향상시킵니다. 전반적으로 TEL ALPHA-303 I는 IC 관련 생산을 위해 설계된 고성능 확산 용광로 모델입니다. 장수와 정확성을 보장하기 위해 스테인리스 스틸로 제작되었습니다. 또한 자동 샘플 전송 장비, 신속한 방열 시간, 온도 조절 시스템, CVD 모듈 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 또한, 성능을 더욱 향상시킬 수있는 다양한 액세서리가 포함되어 있습니다.
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