판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9357815

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 9357815
웨이퍼 크기: 12"
LP P-Doped poly furnace, 12" Process: D-Poly-small flow Boat operation: (2) Boats ASYST / ATR9100 Furnace unit: Heater type: VMM-56-002 5 zones / 500°C -1000°C T/C For over temperature protection: Kit, chamber O.H.SNSR Temperature controller: MA901-8FK09-Z250A Wafer / Carrier handing: Wafer type: Semi standard notch, 12" Carrier type: FOUP / 25-Slots (16) Carrier storages Fork type / material: 1+4 / Al203 W/T Wafer I/F speed (U/D) Wafer loading / Unloading sequence: ED => P => M / M => P => ED Boat / Pedestal: Production wafers: (100) Wafers Boat material: SiC with CVD-coat Boat type: (117) Slots ladder, 8mm Boat rotation Pedestal type: Quartz Process tube: Quartz outer and inner tube Inner type: Straight Internal T/C type Outer tube interior wall type Tube sealing: O-Ring seal Fab constraint: Waves system controller Front operation panel Front MMI and gas flow chart: MMI and GFC General pressure display unit: Pressure-Mpa / Vac-Torr Gas cabinet exhaust display unit: SI (Pa) Furnace temperature controller: M560A Vacuum system: Main valve: CKD VEC Vacuum exhaust system Vacuum pressure controller: CKD VEC Vacuum gage: Pressure control: MKS Capacitance manometer Press monitor: MKS Capacitance manometer (133 kPa) Pump monitor: MKS Capacitance manometer Gas distribution system: Basic style: Integrated gas system Tubing: Stainless steel / Electrical-polish (STD) FUIJKIN Manual valve FUIJKIN Air-operated valve MYKROLIS Filter VERIFLO Regulator Soft backfill injector MFC: SiH4: 3 SLM PH3: 500 SCCM PH3: 50 SCCM PH3: 30 SCCM ClF3: 5 SLM N2: 3 SLM (4) N2: 5 SLM Process pressure: 73 Pa, 133 Pa Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i는 IC 관련 생산에 사용하도록 설계된 고성능 확산 용광로 장비입니다. 첨단 난방 시스템 (Advanced Heating System) 을 탑재하여 보다 빠르고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 용광로는 장기간의 신뢰성과 정확성을 보장하기 위해 단단하고 두꺼운 스테인레스 스틸 (stainless steel) 로 제작되었습니다. 여기에는 자동 샘플 전송 장치 (Automated Sample Transfer Unit) 가 포함되어 있어 용광로에 매우 높은 속도로 샘플을 배치 할 수 있습니다. 성능 측면에서 TEL ALPHA-303I 는 1 분 안에 최대 900 ° C 의 빠른 발열 시간을 수행 할 수 있습니다. 방열 과정 전반에 걸쳐 매우 균일한 온도를 보장하는 혁신적인 온도 조절 머신 (temperature control machine) 이 장착되어 있습니다. 매우 큰 기판 으로 작업 하는 경우 에도, 그 도구 는 어떤 불일치 도 없이, 일관성 있는 온도 를 유지 할 수 있다. 또한, TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I에는 전력 소비를 줄이고 고품질 온도 제어를 제공하는 고급 전자 전력 제어 자산이 장착되어 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I에는 성능을 향상시키기 위해 다양한 추가 기능이 포함되어 있습니다. CVD (Integrated Chemical Vapor Deposition) 모듈은 전기 기판의 맞춤형 도핑을 가능하게하여 IC 관련 생산에 이상적인 선택입니다. 이와 함께, 그것은 또한 석영 보트, 세라믹 커버, 벨 항아리와 같은 다양한 액세서리를 포함합니다. 이러한 애드온은 향상된 방열 분배 (heat up distribution) 를 통해 장치의 성능을 더욱 향상시킵니다. 전반적으로 TEL ALPHA-303 I는 IC 관련 생산을 위해 설계된 고성능 확산 용광로 모델입니다. 장수와 정확성을 보장하기 위해 스테인리스 스틸로 제작되었습니다. 또한 자동 샘플 전송 장비, 신속한 방열 시간, 온도 조절 시스템, CVD 모듈 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 또한, 성능을 더욱 향상시킬 수있는 다양한 액세서리가 포함되어 있습니다.
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