판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9213304
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ID: 9213304
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: MTO
Power box
I/O
Heater chamber
Exhaust box
Main top cover
I/O Top cover
Back door
Loadport
Operation panel
(3) Parts boxes
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power supply:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, Single phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i는 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 확산 용광로 장비입니다. 이 도구 는 "도펀트 '물질 을" 실리콘 웨이퍼' 로 확산 하여 그 들 의 전기 특성 을 수정 함 으로써 고급 반도체 장치 의 생산 에 중요 한 역할 을 한다. TEL ALPHA-303I (TEL ALPHA-303I) 는 고품질, 고성능 반도체 장치로 이어지는 확산 프로세스를 정확하게 제어할 수 있는 고급 기능과 기능을 갖추고 있습니다. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I (TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I) 의 주요 기능 중 하나는 고온 기능으로, 뛰어난 정확성과 안정성으로 확산 프로세스에 필요한 온도를 달성 할 수 있습니다. 이 시스템은 섭씨 X도까지 온도에 도달 할 수 있으며, 전체 웨이퍼 표면에서 도펀트 (dopant) 물질의 효율적이고 균일 한 확산을 보장합니다. 이 정확 한 온도 조절 은 제조 되는 "반도체 '장치 의 원하는 전기 특성 을 달성 하는 데 필수적 이다. 온도 조절 기능 외에도 알파 303i (Alpha 303i) 에는 정교한 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 가 장착되어 공정 챔버에 도펀트 가스를 정확하게 도입 할 수 있습니다. 이 "가스 '전달 기계 는 도펀트'" 가스 '의 농도 와 흐름 을 정밀 히 제어 하여 "실리콘 웨이퍼' 의 균일 하고 일관성 있는 도핑 을 보장 해 준다. 이 도구에는 고급 모니터링 (monitoring) 및 제어 시스템 (control system) 이 장착되어 있어 운영자가 실시간으로 가스 흐름 매개변수를 모니터링하고 조정할 수 있으므로 확산 결과를 최적화할 수 있습니다. 알파-303 I (ALPHA-303 I) 에는 수평 웨이퍼 구성이 있으며, 이를 통해 여러 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있어 반도체 제조의 처리량과 효율성이 향상됩니다. 이 자산은 또한 다양한 크기의 웨이퍼를 수용하도록 설계되어 있으며, 다양한 생산 요구사항에 적합하고 적응할 수 있습니다. 이 모델의 수평 구성 (horizontal configuration) 은 모든 웨이퍼에 걸쳐 열과 도펀트 가스의 균일 한 분포를 보장하여 일관되고 안정적인 확산 결과를 제공합니다. 또한, 알파 303 I (ALPHA 303 I) 는 운영자의 보호 및 제조 공정의 무결성을 보장하기 위해 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이 장비는 사고를 예방하고 업계 안전 표준을 준수하기 위해 종합적인 안전 인터 록 (Safety Interlock) 과 경보를 통해 설계되었습니다. 또한 TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I (TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I) 는 임의의 문제나 이상을 조기에 감지하고 다운타임을 줄이고 웨이퍼 손상의 위험을 최소화하는 진단 및 모니터링 시스템을 내장하고 있습니다. 전반적으로 TEL ALPHA 303 I 확산 로는 반도체 제조 공정을 위해 매우 고급적이고 신뢰할 수있는 도구입니다. 알파-303I (ALPHA-303I) 는 정확한 온도 조절, 고급 가스 전달 장치, 수평 웨이퍼 구성, 종합적인 안전 기능을 통해, 고품질 및 고성능 장치를 효율적이고 효과적으로 생산해야 하는 기능을 반도체 제조업체에 제공합니다.
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