판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293636078

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i는 반도체 칩 생산 처리를 위해 설계된 확산 로와 관련 액세서리입니다. TEL ALPHA-303I는 최대 1200 ° C의 온도에서 확산 처리가 가능하여 얕고 깊은 접합 형성에 적합합니다. 프로세스 사용자 정의를 가능하게 하는 기능에는 과열 (over-temper) 보호를 위한 용광로 소스 전원 공급 장치 설계, 전체 범위 피드백 프로세스 장비, 다중 온도 영역에 대한 독립적 제어 등이 있습니다. 또한 303i 의 HMI (Human-Machine Interface) 에 고급 연동 및 진단 기능이 포함되어 있어 사용자에게 유연성, 안전성 및 생산성을 제공합니다. 효율적인 확산 된 레토르트 챔버 (diffused retort chamber) 디자인은 우수한 균일성 프로파일을 유지하면서 프로세스의 균일성을 보장합니다. 또한, 303i 는 특정 계층 및 애플리케이션 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 RF 생성기 성능이 우수합니다. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I에는 고급 환경 보호 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 기능에는 초저수 유량, 전용 냉각수 냉각기 시스템 및 오존 보호가 포함됩니다. 뿐 만 아니라, 이 "시스템 '에는 공정 요건 에 따라 여러 가지" 가스' 를 처리 하기 위한 "가스 '순열 장치 가 갖추어져 있다. "가스 '순열기 는 또한" 가스' 분석기 와 함께 작용 하여 공정 "파라미터 '가 잘 유지 된다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303I에는 공정 오염을 제어하기위한 필수 진공 펌프 솔루션도 있습니다. 이 장치는 효과적인 프로세스 제어를 위해 대용량 진공 펌프 (vacuum pump) 와 독립적 인 차동 압력 게이지 (differential pressure gauge) 로 구동됩니다. 또한, 이 장치에는 자산 서비스 및 일반 유지 보수를위한 다중 턴백 유지 관리 도구가 있습니다. 전반적으로 Alpha 303i는 크고, 강력하고, 효과적인 확산 로와 관련 액세서리입니다. 첨단 기술을 통해 이 장치는 광범위한 확산 처리 (diffusion processing) 환경에 적합합니다. 정확한 제어 및 균일성을 갖춘 TEL 알파 303i (TEL Alpha 303i) 는 반도체 칩 생산에 효과적이고 신뢰할 수있는 솔루션입니다.