판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON ALPHA 303I TEOS #293818345

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303I TEOS는 확산 로와 관련 액세서리로, 반도체 프로세싱과 같은 어플리케이션을 위해 안정적이고 최첨단 장치가 필요한 사람들에게 매우 효율적이고 탁월한 선택입니다. 이 확산 로에는 애플리케이션의 요구에 따라 구성할 수 있는 9 개의 핫 존 (hot zone) 이 있는 멀티 존 (multi-zone) 설계가 있습니다. 또한 상단 마운트 분산 핫 존 (Hot Zone) 선택기가 있어 쉽고 정밀한 작동이 가능합니다. 용광로의 독특한 디자인은 특히 제어, 일관성 및 안정적인 온도를 목표로합니다. 컴퓨터 작동이 제어되며, 사용자는 많은 온도 설정 (최대 섭씨 999도) 중에서 선택할 수 있습니다. 또한 사용자는 다양한 램프 속도 (Rate Rate), 적신 시간 (Soak Time), 난방 및 냉각 속도 (Heating and Cooling Rate) 중에서 선택하여 특정 프로세스를 최적화할 수 있습니다. TEL ALPHA 303I의 3D 프로파일 난방 시스템은 텅스텐 또는 몰리브덴 히터를 소스로 사용합니다. 균일 한 열 분배는 한 번에 여러 웨이퍼를 목표로하며 빠른 시작 (quick-start) 및 램프 다운 (ram-down) 기능으로 향상되어 정확하고 효율적인 온도 프로파일을 제공합니다. 열 시스템은 또한 통합 단색 반사기 및 환형 웨이퍼 레벨 히터를 사용하여 목표 영역을 가열합니다. TOKYO ELECTRON ALPHA 303I (TOKYO ELECTRON ALPHA 303I) 는 또한 내장형 원격 모니터링 및 제어 시스템을 갖추고 있어 모든 위치에서 디바이스의 상태에 액세스할 수 있습니다. 이 기계는 또한 반복되는 프로세스에 대한 수동 (manual) 프로그램과 자동 (automatic) 프로그램을 모두 지원하므로 소규모 프로젝트를 작성할 때의 시간과 노력을 더욱 줄일 수 있습니다. TEL ALPHA 303I TEOS (TEL ALPHA 303I TEOS) 의 전반적인 설계는 뛰어난 품질이며, 구성 요소는 정교하고 안정적이며, 경험이 풍부한 사용자와 초보자 모두에게 이상적인 장치입니다. 고급 웨이퍼 히팅 (wafer heating) 에서 원격 모니터링에 이르기까지, 이 확산 로는 다양한 프로젝트에서 안정적이고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다.