판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #9404258

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride는 반도체를 생산하기위한 도구입니다. 이 확산은 고온, 질소 대기 및 저압 질소를 허용하는 2 구역 원자로를 사용합니다. 또한, 용광로에는 IPC (Integrated Process Control Equipment) 가 장착되어 있어 정확하고 반복 가능한 온도 및 가스 흐름 제어가 가능하므로 높은 처리량과 뛰어난 품질 제어가 가능합니다. 2 구역 원자로는 저항성 (resistance-heated) 상부 섹션과 측면 가열 (sidwall-heated) 하부 섹션을 가지며, 반응로의 상단과 하단에서 독립적 인 온도 제어를 갖는다. 이 기술은 고급 질화물 에피 택시 레이어를 생산하며, 이는 전자 장치를 만드는 데 사용됩니다. 고온 및 질소 대기는 반응성 기체가 챔버 (chamber) 로 진입하여, 원하는 극한 온도 및 질소 (nitride) 를 효율적으로 제공 할 수있다. 또한, 조절 가능한 측벽 난방은 챔버 전체에서 균일성을 보장하여 일관된 필름 엔지니어링을 제공합니다. IPC 시스템은이 확산 로의 주요 기능입니다. 이 장치에는 고급 흐름 가스 제어 (flowing gas control) 및 모니터링 (monitoring) 과 산화 과정을 조절하고 시간을 단축하는 데 사용되는 디지털 제어 기계 (Digital Control Machine) 가 포함됩니다. 이를 통해 모든 프로세스 단계가 가장 높은 표준으로 수행되고 완벽한 품질 관리 (Quality Control) 프로세스를 제공합니다. 또한 IPC 툴은 다양한 레시피 (레시피) 및 응답 시간 (응답 시간) 을 지원하므로 처리량이 뛰어납니다. TEL Alpha 303i Nitride는 매우 저항력있는 확산 로입니다. 알루미늄 챔버 (aluminum chamber) 와 효율적인 열 전달 에셋 (heat transfer asset) 이 있으며 최대 온도는 1050 ° C입니다. 이것은 Nitride epitaxial 성장을 포함한 다양한 프로세스에 이상적입니다. 용광로에는 스마트 뷰 (SmartView) 카메라 및 온난화 요소가 통합 된 쿼츠 반응기 (quartz reactor) 와 같은 다양한 액세서리가 제공되어 질극 및 산화 과정이 가능합니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride는 우수한 결과를 얻을 수있는 확산 용광로를 안정적이고 사용하기 쉽습니다. 2 구역 원자로 및 IPC 모델은 높은 처리량을 비롯하여 정확성과 반복성을 제공합니다. 또한 쿼츠 (quartz) 원자로와 스마트뷰 (SmartView) 카메라가 함께 제공되어 용광로의 추가 사용자 정의 및 사용이 가능합니다. 따라서, 알파 303i 니트 라이드 (Alpha 303i Nitride) 는 고품질 질화물 에피 택시 레이어와 고급 장치를 생산하려는 사람들에게 이상적인 엔트리 레벨 모델입니다.