판매용 중고 PRESYS E2F00 #293830248

PRESYS E2F00은 반도체 제조 응용 분야에서 고온 처리를 위해 설계된 최첨단 확산 용광로 장비입니다. 이 고급 시스템 (Advanced System) 은 확산 프로세스를 정확하게 제어하여 반도체 재료의 도펀트 프로파일 (dopant profile) 을 매우 정확하고 반복 가능하게 사용자 정의할 수 있습니다. E2F00 은 다양하고 신뢰할 수 있는 플랫폼으로, 정교한 확산 기술이 필요한 연구/생산 환경에 적합합니다. PRESYS E2F00 확산 로의 주요 구성 요소에는 고온 반응 챔버, 가스 전달 장치, 온도 조절 기계, 공정 모니터링 및 제어 도구가 포함됩니다. 반응 챔버 (reaction chamber) 는 최대 1200 ° C의 온도에 도달 할 수있는 석영 튜브 퍼니스로, 확산 과정에 안정적이고 균일 한 열 환경을 제공합니다. 가스 전달 에셋은 대량 유동 컨트롤러 (Mass Flow Controller) 와 가스 혼합 (Gas Mixing) 기능으로 구성되며, 도펀트 가스 유속 및 조성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 온도 제어 모델은 고정밀도 열전대 및 PID 컨트롤러를 사용하여 확산 프로세스 전반에 걸쳐 원하는 온도 프로파일을 유지합니다. 프로세스 모니터링 및 제어 (process monitoring and control) 장비는 고급 소프트웨어와 인터페이스를 통합하여 주요 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링 및 조정할 수 있습니다. E2F00 확산 로의 주요 특징 중 하나는 고체 확산, 가스 확산, 빠른 열 처리 등 고급 확산 기술입니다. 고체 확산 (Solid-state diffusion) 은 고온에서 직접 접촉을 통해 도펀트 물질을 기판 물질에 도입하여 도펀트 농도 및 프로파일을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 한편, "가스 '확산 은 반응" 가스' 에 도펀트 "가스 '를 도입 시키는 것 을 포함 시키며, 거기 에서 그 들 은 농도 구배 에 의해 구동 되는 기질 물질 로 확산 된다. 신속한 열 처리를 통해 고속 확산 (Rapid Thermal Processing) 프로세스를 통해 신속한 처리 시간을 단축하고 생산성을 높일 수 있습니다. PRESYS E2F00 확산 로에는 다양한 액세서리가 장착되어 있어 성능과 유연성이 향상되었습니다. 이러한 액세서리에는 쉬운 기판 적재 및 하역을위한 로딩 시스템, 반응 챔버 제거 및 대피를위한 진공 장치, 도펀트 가스 (dopant gase) 의 순도를 보장하기위한 가스 정화 기계, 처리 후 빠른 냉각을위한 냉각 도구 (cooldown) 가 포함됩니다. 이 자산은 또한 실리콘, 갈륨 비소 (gallium arsenide) 및 기타 화합물 반도체를 포함한 다양한 기판 재료와 호환되므로 다양한 반도체 제작 프로세스에 적합합니다. E2F00 확산 로는 기술 기능 외에도, 사용자 친화적인 기능으로 설계되어 운영 및 유지 보수 작업을 간소화합니다. 이 모델에는 직관적인 제어 및 모니터링을 위한 터치 스크린 인터페이스 (Touch Screen Interface) 와 원거리 (Flexible Operation) 를 위한 원격 액세스 기능이 장착되어 있습니다. 이 장비에는 사전 예방 유지 관리 및 문제 해결을 위한 내장형 진단 및 경고 (alarm) 가 포함되어 있어, 운영 기간 연장 (extended period of operation) 에 걸쳐 안정적이고 일관된 성능을 보장합니다. 전반적으로 PRESYS E2F00 확산 로는 반도체 제조 응용 프로그램을위한 고도로 고급적이고 다양한 플랫폼으로, 확산 프로세스, 고급 기술, 사용자 친화적 인 기능을 정확하게 제어합니다. 첨단 기능과 액세서리를 갖춘 E2F00 은 정교한 확산 (diffusion) 기능이 필요한 리서치 환경과 프로덕션 환경 모두에 적합합니다.