판매용 중고 POLYFLOW C-492 #124187

POLYFLOW C-492 Diffusion Furnace & Accessorie는 CVD (Superior Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) 및 확산 프로세스를 달성하기 위해 정확한 온도 조절을 제공하는 최첨단 확산 로입니다. 온도 조절 범위 (25 ° C ~ 1000 ° C) 가 특징이며 다양한 프로세스에서 유연한 사용을 위해 다양한 가스 구성을 제공합니다. 고급 계측기는 다양한 CVD, PVD 및 brazing 응용 프로그램에 대해 높은 균일성 및 반복 성 제어를 제공합니다. C-492 는 웹 기반 인터페이스를 통해 실시간 데이터를 검색할 수 있는 온라인 분석 (On Line Analysis) 지원을 제공하면서 다운타임을 줄이고 효율성을 높이도록 설계되었습니다. POLYFLOW C-492 확산 로는 견고한 강철 프레임 구조를 사용하여 제작되었으며, 진공 포트에 연결되어 진공 진공 제어를 가능한 고급 마그네트론 스퍼터링 챔버 (magnetron sputtering chamber) 가 특징입니다. 스퍼터링 (Sputtering) 장비는 공압 제어 (Pneumatic Pressure Control) 를 통해 증착 상태를 제어하고 온수 구름 시스템을 사용하여 품질 제어를 보장합니다. 또한 로딩 시간을 줄이기 위해 고정밀 키리스 척 (keyless chuck) 과 온도, 압력, 샘플 질량 등을 추적하기 위해 필요한 모든 센서가 있습니다. 또한, 용광로에는 시간 의존 전압, 역전압, 전류, 주파수 등을 모니터링하기위한 고정밀 디지털 오실로스코프가 장착되어 있습니다. C-492 Diffusion Furnace & Accessorie는 추가 기능을 위해 다양한 액세서리를 갖추고 있습니다. 여기에는 리모콘을위한 태블릿 인터페이스, 프로세스 매개 변수를 최적화하는 실시간 피드백 디지털 제어 장치 (DMC), 빠른 샘플 전송을위한 샘플 전송 장치 (sample transfer unit), 증착 중 메커니즘 속도를 제어하는 고속 프로그래밍 가능 드라이브 모터 머신 등이 포함됩니다. 이러한 모든 기능 및 구성 요소는 특정 사용자 요구 사항에 맞게 업그레이드/구성할 수 있습니다. POLYFLOW C-492는 안정적인 CVD, PVD 및 확산 작동을 위해 고온 및 압력 등급을 제공하는 익스트림 환경에서 작동하도록 설계되었습니다. 또한 고급 차단 제어 (CLR) 와 같은 여러 안전 시스템과 샘플 무결성을 보호하는 오염 방지 기능이 있습니다. C-492는 Stainless Steel, Aluminium, Graphite, Copper, Hexagonal Boron Nitride (BN), Silicon Carbide, Sapphire 및 기타 금속을 포함한 다양한 재료를 지원합니다. 고급 기능 덕분에, POLYFLOW C-492 확산 용광로 및 액세소리는 모든 생산 환경에 이상적인 선택입니다. 다양한 CVD, PVD 및 확산 프로세스에 대한 탁월한 균일성 및 반복성, 빠른 로딩 시간, 향상된 효율성을 제공합니다. 다양한 연구, 개발, 제조 (manufacturing) 응용 프로그램에 사용할 수 있으며, 효율적인 설계로 모든 시설에 큰 가치가 있습니다.