판매용 중고 KOKUSAI Vertron III #9232523

KOKUSAI Vertron III는 확산 용광로 및 액세서리 분야의 리더입니다. 도펀트 확산, 산화물 에칭, 금속 증착 (metal deposition) 등과 같은 웨이퍼 제조 프로세스를 위해 고급적이고 비용 효율적인 도구입니다. 용광로는 대류 및 복사 가열 방법을 모두 제공하여, 초고진공 및 비활성 가스 환경에서 최대 1000 ° C의 정밀한 온도 조절을 가능하게합니다. 고급 제어 장비로, 여러 웨이퍼를 빠르고 효율적으로 처리 할 수 있습니다. 버트론 III (Vertron III) 는 모듈식 설계를 통해 다양한 구성이 가능하므로 유연하고 사용자 정의 가능한 시스템입니다. 코어 구성 요소 인 확산로 (diffusion furnace) 는 균일 한 난방 및 단열을위한 두꺼운 벽으로 만들어졌으며, 안정성을 강화하기위한 조절 가능한 지원 스탠드가 장착되어 있습니다. 특수 확산 챔버 (diffusion chamber) 에는 우회 챔버가 내장되어 있으며 냉각 장치가 개선되어 우수한 온도 균일성이 보장됩니다. 사용 가능한 다른 액세서리로는 통합 온도 센서가 장착 된 리프트 메커니즘 ("리프팅 테이블", 수동 로딩 기계, 자동 웨이퍼 전송 도구, 개방형 기본 성능 옵션) 이 있습니다. KOKUSAI Vertron III의 난방 에셋에는 상단 대류 히터 (top convection heater) 와 2 개의 독립적 인 복사 히터 (radiative heater) 가 모두 포함되어 있습니다. 이는 열 균일성을 조정하고 방향 흐름의 제어를 향상시켜 공석 확산을 향상시키는 데 사용할 수 있습니다. 이 모델에는 균질하고 안정적인 온도 분포를위한 최대 20 개의 세그먼트가 있습니다. 또한, 고급 안전 조치에는 용광로 온도, 디지털 안전 경보, 조정 가능한 수동 안전 밸브 (manual safety valv) 를 모니터링하는 첨단 기술 제어 장비가 포함됩니다. 내부 압력 규제 된 주택은 프로세스 조건의 정확한 제어 및 균일성을 보장하는 반면, 퍼니스 (furnace) 용량은 호환 가능한 하드웨어 및 소프트웨어로 조정할 수 있습니다. 간단히 말해서, Vertron III는 최적의 성능, 효율적인 운영, 안전성을 갖춘, 확산 용광로 및 액세서리를위한 최상위 제품입니다. 반도체 업계의 선두 주자로 자리잡고 있으며, 커스텀 칩 (Custom Chip) 과 기타 전자 기기 생산에 비용 효율적인 솔루션을 제공하고 있다.