판매용 중고 KOKUSAI Vertron III #9078066

KOKUSAI Vertron III는 광범위한 재료의 초고진공 정밀 증착을 위해 설계된 확산 로입니다. 이 다용도 및 견고한 장비는 반도체 및 MEMS 장치 제조에서 중요한 어플리케이션에 안정적인 성능을 제공합니다. Vertron III (KV3) 의 온도 범위는 700 ° C ~ 1100 ° C입니다. 지르코니아 쉘 안전 방패 (zirconia-shell safety shield) 가 장착되어 있으며, 작동 중에 초고속 진공 대기를 유지할 수 있습니다. 이 특수 차폐물 (special shielding) 을 통해 고온 및 저온 물질의 강착에 필요한 낮은 오염 수준 및 낮은 입자 수를 달성 할 수 있습니다. 이 시스템에는 또한 반응 온도를 제어하기위한 고온화 반응 -Quench-Transporter (RQT) 장치, 다양한 층의 재료와 온도 범위를 개별적으로 제어하기위한 다중 온도 영역 제어 프로그램 (Multiple-temperaturable Reaction -Quench-Transporter) 장치 등 다양한 제어 기능이 제공됩니다. 단일 작업. 이 기계에는 1100 ° C 이상의 온도에서 수행 할 수있는 고온 OARP (Overflow Atom Reception Panel) 도 포함되어 있으므로 균일 한 증착 결과를 보장합니다. 이 도구에는 자동 웨이퍼 전송 로더 (Automatic Wafer Transport Loader) 가 포함되어 있어 자동로드 및 언로드가 가능하며 캐리어 가스의 여과를위한 저압 공급 자산이 있습니다. 또한이 모델에는 ADCS (Automatic Deposition Control Equipment) 가 장착되어 필름 두께를 정확하게 제어하고 안정적인 증착 프로세스를 보장합니다. 높은 정확도, 실시간 측정 시스템도 통합되어 빠르고, 정확하며, 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 온도 조절 장치 (Temperature Control Unit) 도 기계에 포함되어 공구 전체에 걸쳐 균형이 잡힌 온도 프로파일을 생성하고 증착 결과를 균일하게 생성합니다. KOKUSAI Vertron III는 매우 높은 진공 시스템에 사용하기에 적합하며, 다양한 기판에서 금속 및 비금속 코팅을 모두 생산할 수 있습니다. 첨단 (state-of-art) 기능을 많이 갖추고 있어 고정밀 (high-precision) 예금을 생산할 수 있으며, 성능과 품질의 완벽한 조합을 찾는 제조업체에게는 완벽한 선택입니다.