판매용 중고 KOKUSAI Quixace II Nitride #293638694

KOKUSAI Quixace II Nitride는 확산 로이자 금속의 고온 열 처리를위한 완전한 액세서리 범위입니다. 이 최첨단 확산 장비는 온도와 대기의 정확한 제어를 통해 균일하고 질화 (nitriding) 를 달성 할 수 있도록 설계되었습니다. Quixace II Nitride는 실험실과 산업 응용 프로그램 모두에 적합하며, 설치와 운영이 쉽습니다. KOKUSAI Quixace II Nitride의 주요 기능에는 in-situ 세라믹 쉘 인서트가있는 원통형 디자인이 포함됩니다. 이 삽입물은 온도가 질화실 전체에 균등하게 분포되어 과열 위험을 최소화하고 균일 한 질화층 (nitride layer) 두께를 보장합니다. 이 용광로는 최대 1250 ° C까지 가열 할 수 있으며, 온도 조절 및 모니터링이 용이한 장비 (장비) 가 장착되어 있습니다. 이것은 터치패드 LCD 디스플레이와 산소, 이산화탄소, 이산화질소를 포함한 다양한 센서를 사용하여 달성 할 수 있습니다. 이 제품에는 6 단계 가스 계량 시스템 (gas metering system) 이 포함되어 챔버 내에서 가스 조성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 적절한 가스에는 질소, 수소, 암모니아 및 천연 가스가 포함되며, 이는 사용자가 필요에 따라 측정 할 수 있습니다. 이 장치 는 또한 질소 처리 전 에 "챔버 '를 자동 제거 할 수 있게 하여, 그 과정 에서 불순물 을 제거 한다. 또한, Quixace II Nitride에는 열 처리 효율성을 높이고 챔버의 안정적인 대기를 유지하기 위해 진공 재킷 메커니즘이 장착되어 있습니다. 이 절연체 (insulation) 는 또한 질화물 부위의 효율적인 냉각을 보장하고 그 과정에서 산화를 최소화한다. 다른 특징으로는 내부 전기 가열 요소, 온도를 측정하는 피로미터 (pyrometer) 및 질화물 공정 동안 기계를 검사하기위한 안전 제어 장치 (Safety control device) 가 있습니다. 전반적으로 KOKUSAI Quixace II Nitride는 효율적이고 균일 한 금속 질소를 위해 설계된 고급 용광로입니다. 원통형 디자인과 다양한 기능을 통해 실험실, 산업용 어플리케이션 모두에 적합합니다. 이 제품을 사용하여, 사용자는 고른 열 분포 (even heat distribution) 와 정확한 온도 조절을 보장할 수 있으며, 이는 얇고 단단한 질화물 층을 균일하게 생성합니다.