판매용 중고 KOKUSAI DJ-835V #293774752
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KOKUSAI DJ-835V 확산 로는 실리콘 웨이퍼의 정확하고 균일 한 도핑을 위해 반도체 제조에 사용되는 최첨단 열 처리 장비입니다. 이 다목적 도구에는 다양한 고급 기능과 액세서리 (accessory) 가 장착되어 있어 웨이퍼 처리 단계 전반에 걸쳐 최적의 성능, 효율성을 보장합니다. KOKUSAI DJ 835V 확산 로의 핵심에는 고성능 석영 튜브 (quartz tube) 가 있으며, 이는 웨이퍼 도핑 공정의 반응 챔버 역할을합니다. 석영 튜브 (quartz tube) 는 높은 온도를 견딜 수 있으며 웨이퍼 표면에 균일 한 열 분포를 보장하기 위해 우수한 열 전도성을 위해 설계되었습니다. 이 디자인은 온도 변화를 최소화하고 일관되고 재현 가능한 도핑 결과를 보장합니다. DJ-835V에는 도핑 프로세스 동안 정밀한 온도 조절이 가능한 최첨단 난방 시스템 (state-of-the-art heating system) 이 장착되어 있습니다. 난방 장치 (heating unit) 는 고품질의 저항 난방 요소와 정교한 제어 머신 (control machine) 으로 구성되어 있어 높은 정확도로 온도 프로파일을 프로그래밍 및 모니터링할 수 있습니다. 이 정확한 온도 조절은 원하는 도핑 프로파일을 달성하고 프로세스 변화를 최소화하는 데 중요합니다. 웨이퍼의 로드 및 언로드를 용이하게하기 위해 DJ 835V 확산 퍼니스에는 종합적인 웨이퍼 처리 도구 (wafer handling tool) 가 장착되어 있습니다. 이 자산에는 처리 중 웨이퍼를 안전하게 보관하는 웨이퍼 보트 (wafer boat) 또는 캐리어 (carrier) 와 프로세스 챔버 안팎으로 효율적인 웨이퍼 이동을위한 자동 로딩 메커니즘이 포함됩니다. 웨이퍼 처리 모델 (Wafer Handling Model) 은 다양한 웨이퍼 크기 및 유형과의 호환성을 위해 설계되었으며, 웨이퍼 처리 응용 프로그램의 유연성과 다용성을 보장합니다. KOKUSAI DJ-835V는 주 확산 용광로 장치 (Main Diffusion Furnace Unit) 외에도 다양한 액세서리 (옵션) 와 애드온 (추가 기능) 을 제공하여 성능과 성능을 향상시킵니다. 이러한 액세서리에는 공정 챔버에 도펀트 가스를 도입하기위한 가스 전달 시스템, 원하는 공정 대기 생성을위한 진공 펌핑 시스템, 실시간 프로세스 매개변수 측정 및 제어를 위한 모니터링 도구 (monitoring tools) 가 포함될 수 있습니다. 사용자는 이러한 액세서리를 통합하여 확산 광로 (diffusion fornace) 를 조정하여 특정 프로세스 요구 사항을 충족하고 여러 애플리케이션에 대한 성능을 최적화할 수 있습니다. KOKUSAI DJ 835V 확산 로는 작업 및 유지 보수 작업을 간소화하는 사용자 친화적 인 기능과 인터페이스로 설계되었습니다. 이 장비에는 직관적인 제어 소프트웨어 (control software) 가 장착되어 있어 사용자는 필요에 따라 프로세스 레시피, 프로세스 매개변수 모니터링, 문제 해결을 손쉽게 수행할 수 있습니다. 이 시스템에는 또한 운영 중 운영자 및 장비를 보호하는 내장 안전 기능 (예: 과도한 보호, 가스 누출 감지, 비상 셧다운 메커니즘) 이 포함되어 있습니다. 전반적으로, DJ-835V 확산 로는 반도체 웨이퍼 도핑 응용 프로그램을위한 매우 고급적이고 안정적인 도구입니다. 견고한 디자인, 정확한 온도 조절, 다용도 웨이퍼 처리 장치 (wafer handling unit) 및 옵션 액세서리는 반도체 제조에서 광범위한 확산 프로세스에 이상적입니다. DJ 835V 는 연구개발 (R&D) 이나 대용량 생산 환경에 사용되든, 탁월한 성능과 효율성을 제공하여 일관성 있고 고품질의 도핑 결과를 얻을 수 있습니다.
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