판매용 중고 KOKUSAI DJ-815V #179734

KOKUSAI DJ-815V는 웨이퍼 스케일 전자 장치 사전 처리 제조를위한 고온, 확산 용광로 및 액세서리입니다. 산화, 확산, 드라이브 인 등 다양한 사전 처리 단계에 적합합니다. 용광로는 한 번에 최대 8 개의 적재 된 웨이퍼 (wafer) 를 수용하며, 전체 공정 영역에서 균일 한 온도 분포를 제공 할 수 있습니다. 처리 중에 최대 1500 ° C의 온도를 유지할 수있는 큰 챔버 (chamber) 를 제공합니다. 공정 챔버의 대기압은 대기압에서 최대 0.93MP (pressure) 까지 다양합니다. DJ-815V는 Degasser, Gas Manifold, Gas Mixer, 특정 사용자 요구 사항에 맞는 맞춤형 제작 액세서리, 플라즈마 기반 인슐레이션 프로세스를 지원하는 소형 RF 생성기 등 다양한 액세서리와 통합 될 수 있습니다. 고온 정확성과 균일성을 보장하기 위해 견고하고, 강제적인 대류 메커니즘과, 효율적인 난방 요소를 갖추고 있습니다. 이 장치는 또한 통합 가스 패널 (gas panel) 로 설계되었으며 효율적인 안전 시스템 (safety system) 과 독립된 온도보다 높은 보호 장치를 갖추고 있습니다. KOKUSAI DJ-815V의 크기는 480mm (너비) x 575mm (깊이) x 1150mm (높이) 이며 챔버 치수는 350mm (너비) x 450mm (깊이) x 750mm (높이) 입니다. 1.2kW의 낮은 누출 전력 (low leakage power) 을 생산할 수 있으며, 작업 챔버 전체의 온도 분포는 3 개의 독립적으로 제어 가능한 난방 요소로 촉진됩니다. 또한, 다중 세그먼트 열 사이클 프로그램 (multi-segmented thermal cycle program) 이 장착되어 있으며, 사용자가 처리 전 배치의 다른 단계에 대해 다양한 온도와 유지 시간을 구성 할 수 있습니다. DJ-815V (DJ-815V) 는 다양한 기능과 안전한 프로세스 제어를 갖춘 고온 확산 로가 필요한 칩 제조업체와 관련 기업에 적합한 안정성, 다용도, 효율적인 확산 로입니다. EMC VTL (Virtual Tape Configuration) 솔루션 의 견고한 구성과 포괄적인 기능을 통해 수많은 디바이스의 복잡한 통합 및 사전 프로세스와 관련된 모든 프로세스에 적합한 솔루션이 될 수 있습니다.