판매용 중고 KOKUSAI DJ-1205V-DF #293819756

KOKUSAI DJ-1205V-DF 확산 로는 반도체 산업을 위해 설계된 최첨단 열 처리 장비입니다. 고성능 수직 배치로 (Vertical Batch Furnace) 로서, 반도체 웨이퍼의 정확한 도핑을 위한 고급 확산 기능을 제공합니다. 이 장비 는 "도판트 '의 확산 과정 을" 실리콘' 기판 으로 조절 하여 특정 한 전기 특성 을 만들어 내는 것 으로 고급 반도체 장치 를 제작 하는 데 필수적 이다. DJ-1205V-DF 퍼니스에는 반도체 웨이퍼를 효율적이고 안정적으로 처리할 수 있는 다양한 견고한 기능이 장착되어 있습니다. 고품질 소재와 구성 요소로 구성되어 장기적인 성능과 안정성을 보장합니다. 용광로 챔버 (furnace chamber) 는 여러 웨이퍼 배치를 수용하여 제어된 환경에서 처리량을 높이도록 설계되었습니다. KOKUSAI DJ-1205V-DF의 주요 기능 중 하나는 고급 난방 장비입니다. 용광로 에는 전체 "웨이퍼 '표면 에 균일 한 가열 을 보장 하는 정밀 한 온도 조절 장치 가 갖추어져 있다. 이 기능은 확산 프로세스를 제어하고 웨이퍼 기판에서 일관된 도핑 (doping) 프로파일을 달성하는 데 필수적입니다. 온도 조절 장치 (Temperature Control Unit) 는 매우 정확하고 안정적이며, 최적의 장치 성능을 위해 엄격한 프로세스 제어를 제공합니다. DJ-1205V-DF 퍼니스의 확산 공정은 가공 챔버에 도펀트 가스 (dopant gase) 를 도입 할 수있는 가스 전달 기계에 의해 촉진됩니다. 이 도구는 제어 된 유속 (flow rate) 에서 정확한 양의 도펀트 가스 (dopant gase) 를 제공하도록 설계되어 반도체 웨이퍼의 정확한 도핑 프로파일을 보장합니다. "가스 '배달 자산 은 완전 히 자동화 되어 있으며, 서로 다른" 도펀트' 재료 와 공정 "파라미터 '에 맞게 쉽게 구성 할 수 있다. KOKUSAI DJ-1205V-DF 확산 퍼니스의 또 다른 중요한 구성 요소는 쿼츠 튜브 (quartz tube) 어셈블리로, 확산 프로세스에 대한 제어 환경을 제공합니다. 쿼츠 튜브 (quartz tube) 어셈블리는 높은 온도와 부식 가스를 견딜 수 있도록 설계되어 장기간의 내구성과 신뢰성을 보장합니다. 석영 "튜브 '의 균일 함 은" 웨이퍼' 에 일관성 있는 도핑 "프로파일 '을 달성 하는 데 중요 하며 열 효율성 에 최적화 된다. DJ-1205V-DF 확산 (DJ-1205V-DF) 로에는 확산 프로세스를 손쉽게 운영 및 모니터링할 수 있는 종합적인 프로세스 제어 모델이 장착되어 있습니다. 이 장비에는 작업자가 프로세스 레시피 설정, 프로세스 매개변수 모니터링, 처리 중 실시간 데이터 추적 (Track Real Time Data) 을 수행할 수 있도록 하는 사용자에게 친숙한 인터페이스가 포함되어 있습니다. 이러한 자동화 및 제어 수준은 생산성을 높이고, 반도체 제작을 위한 반복 가능한 결과를 보장합니다. 안전성 측면에서 KOKUSAI DJ-1205V-DF 용광로에는 운영자와 장비를 보호하기 위해 안전 인터 록과 경보가 내장되어 있습니다. 이 시스템은 처리 중 이상이나 편차를 감지하고 자동으로 안전 프로토콜 (Safety Protocol) 을 트리거하여 사고 또는 손상을 방지하도록 설계되었습니다. 이는 운영자에게 안전한 작업 환경을 보장하며, 잠재적인 위험으로부터 장비를 보호합니다. 전반적으로, DJ-1205V-DF 확산 로는 반도체 산업을 위한 정밀한 확산 기능을 제공하는 고급적이고 신뢰할 수있는 열 처리 장비입니다. 고급 기능, 정밀한 온도 조절 (temperate control), 종합적인 프로세스 제어 장치 (process control unit) 를 갖춘 이 용광로는 최적의 성능과 신뢰성을 갖춘 고급 반도체 장치를 제작하는 데 필수적입니다.