판매용 중고 KOKUSAI CX-5000 #293763031

KOKUSAI CX-5000 (KOKUSAI CX-5000) 은 집적회로 및 기타 전자 기기 제조에서 반도체 재료의 정확하고 효율적인 열 처리를 위해 설계된 고급확산로 (diffusion furnace) 장비입니다. 이 다기능 시스템 (Versatile System) 에는 다양한 어플리케이션에서 탁월한 성능, 안정성, 유연성을 제공할 수 있는 다양한 혁신적인 기능과 액세서리가 장착되어 있습니다. CX-5000 장치의 핵심은 고성능 용광로 챔버 (furnace chamber) 로, 최대 1200 ° C의 온도에 반도체 웨이퍼의 균일하고 제어 된 가열을 제공하도록 설계되었습니다. 이 용광로 챔버 (furnace chamber) 는 뛰어난 열 특성을 가진 고품질 재료로 구성되어 웨이퍼 표면의 최대 열 전달 효율성 및 온도 균일성을 보장합니다. 용광로에는 여러 가열 구역 (hating zone) 과 가스 분사 포트 (gas injection port) 가 장착되어 있어 웨이퍼 처리 단계에서 정확한 온도 프로파일링 및 제어가 가능합니다. 확산 과정을 용이하게하기 위해, KOKUSAI CX-5000 기계에는 고급 가스 전달 및 혼합 시스템이 장착되어 있는데, 이를 통해 용광로 챔버 내부의 주변 가스 대기를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이것 은 "반도체 '물질 이 최적 의" 온도' 와 "가스 '조성물 에서 원하는 화학 반응 과 확산 과정 을 거치게 하여 최상 의 성능 과 수율 을 얻게 한다. 이 도구는 반도체 처리 단계의 특정 요구 사항에 따라 산소, 질소, 수소, 도펀트 가스 등 다양한 공정 기체를 처리 할 수 있습니다. CX-5000 에셋은 코어 퍼니스 챔버 (Core Furnace Chamber) 외에도 다양한 혁신적인 액세서리 및 기능을 통해 기능 및 성능을 향상시킬 수 있습니다. 여기에는 열 처리 단계 (thermal processing steps) 의 정확한 프로그래밍 및 모니터링을 가능하게 하는 고급 소프트웨어 알고리즘이 포함된 정교한 프로세스 제어 모델 (process control model) 이 포함됩니다. 이 장비는 또한 종합적인 안전 연동 시스템 (Safety Interlock System) 과 경보를 제공하여 작동 중 운영자와 장비의 보호를 보장합니다. KOKUSAI CX-5000 장치는 또한 높은 수준의 자동화 및 통합 기능을 제공하여 다른 반도체 제조 장비, 공정 제어 시스템과의 원활한 연결을 지원합니다. 이렇게 하면 시스템이 완전히 자동화된 프로덕션 환경에서 작동하므로 대용량 (high-volume) 제조 애플리케이션의 처리량과 효율성을 극대화할 수 있습니다. 또한 간편한 운영 및 유지 보수 작업을 위한 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface) 를 통해 운영자들은 최소한의 교육과 노력으로 복잡한 프로세스 레시피를 신속하게 설정하고 실행할 수 있습니다. 전반적으로, CX-5000 확산 용광로 자산은 고급 반도체 제조 공정에서 반도체 재료의 열 처리를 위한 최첨단 솔루션입니다. 고성능 퍼니스 챔버 (Furnace Chamber), 고급 가스 공급 시스템 (Advanced Gas Delivery System), 혁신적인 기능 및 액세서리를 갖춘 이 모델은 반도체 업계의 광범위한 어플리케이션에 탁월한 성능, 안정성, 유연성을 제공합니다. 확산, 산화, 어닐링 (annealing) 또는 기타 열 처리 단계에 사용되는 KOKUSAI CX-5000 장비는 탁월한 결과를 제공하고 반도체 생산에서 최고의 품질과 수율을 보장합니다.