판매용 중고 KOKUSAI CX-5000 #293762986
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ID: 293762986
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1206VN -DF
Process: SI3N4
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase
2007 vintage.
KOKUSAI CX-5000은 반도체 재료의 정확한 열 처리를 위해 맞춤형 최첨단 확산 용광로 장비입니다. 이 고성능 도구는 반도체 제조, 연구, 개발 애플리케이션의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. CX-5000 은 첨단 기능과 탁월한 성능 기능을 통해, 광범위한 소재 및 프로세스 요구를 충족할 수 있도록 안정적이고 재현 가능한 열 처리 (thermal processing) 기능을 제공합니다. KOKUSAI CX-5000 의 용광로 챔버 (furnace chamber) 는 다양한 기판 크기를 수용하여 다양한 처리 요구 사항에 적응할 수 있도록 설계되었습니다. 이 시스템에는 전체 기판 표면에서 균일 한 가열 및 냉각을 보장하는 정확한 온도 조절 메커니즘이 장착되어 있습니다. 이 균일성은 반도체 프로세싱에서 일관되고 고품질 결과를 달성하는 데 중요합니다. CX-5000 은 강력한 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 를 갖추고 있어 용광로 챔버 내에서 프로세스 대기를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 기계는 다양한 프로세스 가스 (Process Gase) 를 높은 정확성과 반복성 (Repeatability) 으로 제공할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 프로세스 환경을 애플리케이션의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 이러한 유연성을 통해 KOKUSAI CX-5000은 산화, 확산, 어닐링 등 다양한 프로세스에 적합합니다. CX-5000 의 주요 장점 중 하나는 고급 프로세스 모니터링/제어 기능입니다. 이 툴에는 복잡한 제어 에셋 (control asset) 이 장착되어 있어, 사용자는 주요 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 이러한 제어 수준 (level of control) 을 통해 열 프로세스의 정확한 실행을 보장하고 원하는 결과를 일관되게 달성할 수 있습니다. 또한, KOKUSAI CX-5000은 운영 중 모델과 운영자 모두를 보호하기 위해 포괄적인 안전 기능을 갖추고 있습니다. CX-5000 은 안정성이 높고 유지 보수가 용이하여 다운타임을 최소화하고 무중단 운영을 보장하도록 설계되었습니다. 이 장비는 장기적인 내구성과 성능을 위해 설계된 고품질 (High-Quality) 소재와 부품으로 구성됩니다. 일상적인 유지 보수 작업 (Maintenance Task) 은 간단하며 효율적으로 수행할 수 있으므로 최소한의 노력으로 시스템을 최적의 상태로 유지할 수 있습니다. 용광로 챔버 이외에도 KOKUSAI CX-5000 은 다양한 액세서리 (액세서리) 와 옵션으로 제공되므로 성능과 다용도 기능이 더욱 향상되었습니다. 이러한 액세서리에는 고급 웨이퍼 처리 시스템, 추가 가스 전달 옵션, 특정 응용 프로그램에 맞춘 맞춤형 프로세스 레시피 (custom process recipe) 가 포함될 수 있습니다. 이러한 액세서리를 사용하여 장치를 사용자 정의하면 고유한 처리 요구에 맞게 CX-5000 을 최적화할 수 있습니다. 전반적으로 KOKUSAI CX-5000은 반도체 처리 어플리케이션에 탁월한 성능, 안정성, 유연성을 제공하는 최첨단 확산 퍼니스 머신입니다. 고급 기능과 기능을 갖춘 CX-5000 은 리서치/개발 환경과 대용량 제조 환경에서 모두 사용할 수 있습니다. 고쿠사이 CX-5000 은 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer), 복합 반도체 (compound semiconductor) 또는 기타 소재 (materials) 를 처리하든, 정확하고 반복 가능한 열 처리 결과를 달성하기 위한 강력하고 다양한 플랫폼을 제공합니다.
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