판매용 중고 KOKUSAI CX-3000 #293792547

KOKUSAI CX3000 은 반도체 제조 응용프로그램을 위한 정확하고 효율적인 열 처리 (thermal processing) 기능을 제공하도록 설계된 정교하고 고도의 확산 용광로 장비입니다. 이 최첨단 시스템은 다양한 기능과 기술을 통합하여 클린 룸 (Clearroom) 환경에서 안정적이고 일관된 성능을 보장합니다. KOKUSAI CX-3000 (KOKUSAI CX-3000) 의 핵심에는 확산 프로세스에 대한 극도로 엄격한 온도 조절을 달성하고 유지할 수있는 고성능 확산 용광로 챔버가 있습니다. 이 장치에는 챔버 전체에 분산 된 여러 가열 요소가 장착되어 있어 온도 분포가 균일하고 열 프로파일링 (thermal profiling) 이 정확합니다. 이를 통해 인 (phosphorous) 또는 붕소 (boron) 확산 등 다양한 확산 프로세스에 필요한 온도 구배 및 경사 속도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. CX3000 은 정교한 가스 전달 머신 (gas delivery machine) 을 통해 확산 프로세스에 필요한 도펀트 가스 (dopant gase) 의 정확한 혼합물을 도입할 수 있습니다. 이 도구에는 고밀도 질량 흐름 제어기 (high-precision mass flow controller) 가 장착되어 있어 기체 유속을 정확하고 반복적으로 제어할 수 있으므로 챔버에 도펀트 가스의 농도가 적절합니다. 이 정확 한 제어 는 가공 하는 반도체 "웨이퍼 '에 원하는" 도펀트 프로파일' 을 이루는 데 필수적 이다. CX-3000 은 정확한 열/가스 제어 (thermal/gas control) 기능과 더불어 고급 자동화 및 프로세스 제어 기능을 갖추고 운영 효율화, 생산성 향상 등의 효과를 제공합니다. 에셋은 사용자에게 친숙한 제어 인터페이스 (control interface) 와 상호 작용하여 운영자가 프로세스 매개변수 (parameter) 를 쉽게 설정하고 모니터링할 수 있으며, 효율적인 운영을 위해 프로세스 레시피를 저장하고 회수할 수 있습니다. 이 자동화 기능에는 고급 진단 및 로깅 (Logging) 기능도 포함되어 있어 모델 성능을 실시간으로 모니터링하고 사전 예방 유지 관리를 용이하게 합니다. 또한, KOKUSAI CX3000 은 안전성과 신뢰성을 강조하며, 견고한 구성과 fail-safe 시스템을 통해 확산 프로세스의 무결성을 보장하고, 장비와 운영자를 모두 위험 요소로부터 보호합니다. 이 시스템은 사고를 예방하고 반도체 처리 환경의 무결성을 보장하기 위해 온도외 (over-temperature) 나 가스 누출 (gas leaks) 과 같은 비정상적인 상황을 감지하고 대응하는 포괄적인 안전 인터 록 (safety interlock) 과 경보를 갖추고 있습니다. 또한 KOKUSAI CX-3000 은 유연성과 확장성을 염두에 두고 설계되었으며, 다른 반도체 제조 장비와의 사용자 정의 및 통합 옵션을 제공합니다. 이 장치는 부하 잠금 챔버 (Load Lock Chamber), 웨이퍼 처리 시스템 (Wafer Handling System), 프로세스 모니터링 도구 (Process Monitoring Tools) 와 같은 추가 액세서리로 구성하여 고객의 특정 요구 사항에 맞춘 완전 통합형 반도체 처리 라인을 만들 수 있습니다. 결론적으로, CX3000 은 최첨단 기술, 정확한 제어 기능, 견고한 설계, 반도체 제조 어플리케이션을 위한 안정적이고 효율적인 열 처리 (thermal processing) 기능을 결합한 최첨단 확산 시스템 입니다. 고성능 제품과 유연성을 갖춘 CX-3000 은 고품질/고수율 반도체 디바이스를 구현하고자 하는 반도체 제조업체에 이상적인 솔루션입니다.