판매용 중고 KOKUSAI CX-3000 #293762989
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ID: 293762989
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2005
Diffusion furnace, 12"
P/N: DD-1223V
Process: BIO
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase
2005 vintage.
KOKUSAI CX3000 은 고급 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 확산 로입니다. 이 도구는 정밀 제어 (precision control) 와 높은 처리량 (throughput) 기능을 통해 최첨단 반도체 장치 제작을 위한 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다. 주요 특징: 1. 고온 균일성: KOKUSAI CX-3000은 프로세스 챔버 전체에서 우수한 온도 균일성을 보장하는 강력한 난방 시스템을 갖추고 있습니다. 이것은 반도체 프로세싱에서 일관되고 안정적인 결과를 달성하는 데 중요합니다. 2. 가스 흐름 제어 (Gas Flow Control): 이 도구에는 공정 가스를 정확하게 관리할 수있는 고급 가스 흐름 제어 메커니즘이 장착되어 있습니다. 이것은 확산 과정에서 최적의 화학 반응과 균일성을 보장합니다. 3. 다중 영역 가열 (Multi-Zone Heating): CX3000에는 확산 프로세스 중 정밀한 온도 프로파일링이 가능한 여러 가열 영역이 장착되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 특정 프로세스 요구 사항에 맞게 열 프로파일을 조정할 수 있습니다. 4. 빠른 가열 및 냉각 (Rapid Heating and Cooling): 가열 및 냉각 주기가 빨라져 빠른 프로세스 전환이 가능하며 전체 처리 시간이 단축됩니다. 이것은 높은 처리량 제조 환경에 필수적입니다. 5. 프로세스 유연성 (Process Flexibility): CX-3000은 광범위한 프로세스 기능을 제공하여 다양한 확산 애플리케이션에 적합합니다. 도펀트 확산 (dopant diffusion), 산화 (oxidation), 어닐링 (annealing) 또는 기타 열 프로세스이든, 이 도구는 다양한 제조 요구를 충족시킬 수 있습니다. 6. 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface): 이 도구는 편리한 사용자 인터페이스를 통해 확산 프로세스를 쉽게 작동하고 모니터링할 수 있습니다. 운영자는 레시피를 쉽게 프로그래밍하고, 프로세스 매개변수를 모니터링하고, 필요에 따라 조정할 수 있습니다. 7. 견고한 구성: KOKUSAI CX3000 은 고품질의 자재 및 구성 요소를 기반으로 구축되어 내구성과 장기적인 신뢰성을 보장합니다. 이 도구는 반도체 제조 환경의 엄격함을 견디고, 시간이 지남에 따라 일관된 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 액세서리: 용광로 자체 외에도 KOKUSAI CX-3000에는 다양한 액세서리가 제공되어 기능 및 사용 편의성이 향상되었습니다. 이러한 액세서리에는 다음이 포함될 수 있습니다: 1. 가스 전달 시스템: 확산 과정에서 프로세스 가스를 정확하게 제어 할 수있는 정밀 가스 전달 시스템. 2. 온도 센서: 공정 챔버 내의 열 프로파일을 모니터링하고 제어하는 고정밀 온도 센서. 3. 로딩 시스템: 웨이퍼 로딩 및 언로드를 용이하게하고 제조 공정을 간소화하는 기계 또는 로봇 로딩 시스템. 4. 프로세스 모니터링 도구: 프로세스 매개 변수에 대한 실시간 데이터를 제공하고, 운영자가 정보화된 의사 결정을 내리고, 프로세스 성능을 최적화하는 고급 모니터링 도구 (Advanced monitoring tools) 입니다. 전체적으로 CX3000 확산 로 (diffusion furnace) 및 액세서리 (accessory) 는 제조 프로세스를 위한 고성능, 안정적인 장비를 원하는 반도체 제조업체를 위한 포괄적인 솔루션을 제공합니다. CX-3000 은 고급 기능, 프로세스 유연성, 사용자 친화적 설계를 통해, 정확하고 효율적인 반도체 제조 작업을 수행하는 데 유용한 툴입니다.
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