판매용 중고 KOKUSAI CX-3000 #293762967
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ID: 293762967
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2004
Diffusion furnace, 12"
P/N: DD-1223VN
Process: BIO
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase
2004 vintage.
KOKUSAI CX3000 은 반도체 업계의 까다로운 요구에 부응하도록 설계된 첨단 (Advanced) 확산 로입니다. 이 최첨단 장비는 확산 프로세스를 정확하게 제어하여 고품질의 결과와 효율적인 생산성을 보장합니다. 코쿠사이 (KOKUSAI) CX-3000 의 주요 특징 중 하나는 고급 난방 장비로, 웨이퍼의 정확하고 균일 한 난방이 가능합니다. 용광로에는 최대 1200 ° C의 온도에 도달 할 수있는 고성능 가열 (HPT) 요소가 장착되어 있어 광범위한 재료에 대한 최적의 확산 조건을 보장합니다. 또한 CX3000 은 뛰어난 처리 제어 기능을 제공합니다. 용광로에는 온도, 가스 흐름, 압력 (pressure) 과 같은 매개변수를 정확하게 조정 할 수있는 정교한 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 이러한 제어 수준을 통해 일관되고 안정적인 확산 결과를 얻을 수 있으므로 CX-3000 은 대용량 운영 환경에 이상적인 솔루션이 됩니다. KOKUSAI CX3000 은 또한 다용도가 높으며, 다양한 프로세스 가스와 자료를 지원할 수 있습니다. 용광로 는 인, 붕소, 비소 와 같은 일반적 인 도펀트 (도펀트) 와 호환 되므로, 다양 한 반도체 물질 을 확산 할 수 있다. 또한, 용광로는 다양한 크기의 웨이퍼를 수용 할 수 있으며, 이는 광범위한 생산 요구 사항에 적합합니다. KOKUSAI CX-3000의 또 다른 주요 기능은 고급 가스 전달 장치입니다. 이 용광로에는 정밀 가스 흐름 제어기 (precision gas flow controller) 가 장착되어 있어 확산 과정에서 정확하고 안정적인 가스 전달이 가능합니다. 이를 통해 프로세스 가스가 웨이퍼에 균등하게 분산되어, 균일 한 확산 프로파일과 고품질 (high-quality) 결과가 발생합니다. 용광로 자체 외에도 CX3000 은 다양한 액세서리 (accessory) 와 옵션을 제공하여 성능과 기능을 향상시킵니다. 이러한 액세서리에는 프로세스 모니터링 및 제어 시스템, 데이터 분석/프로세스 최적화를 위한 소프트웨어 툴 등이 포함됩니다. 이 광범위한 기능으로 인해 CX-3000 은 반도체 제조를 위한 강력하고 다양한 툴이 되었습니다. 전체적으로 KOKUSAI CX3000 은 탁월한 정밀도, 제어 능력, 다용성을 제공하는 최첨단 확산 로입니다. 첨단 난방기, 정밀 공정 제어 (process control) 기능, 다양한 액세서리 (accessory) 를 갖춘 이 용광로는 반도체 업계에서 가장 까다로운 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 연구 개발 또는 대용량 생산에 사용되든, KOKUSAI CX-3000 은 반도체 확산 프로세스에 안정적이고 효율적인 선택입니다.
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