판매용 중고 KOKUSAI CX-3000 #293762965

KOKUSAI CX3000 은 반도체 제조에 사용되는 기판의 정확하고 효율적인 열 처리 (thermal processing) 를 위해 설계된 최첨단 확산 로입니다. 첨단 장비는 최첨단 (State-of-art) 기술을 탑재하고, 탁월한 제어 및 반복 능력을 보장하면서 고성능 확산 프로세스를 지원합니다. KOKUSAI CX-3000 시스템은 확산 프로세스를위한 통제 된 환경을 만들기 위해 함께 작동하는 몇 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 용광로의 주 챔버 (main chamber) 는 우수한 열 안정성과 균일 한 열 분배를 제공하는 고품질 재료로 구성됩니다. 이를 통해 기판이 프로세스 전체의 일관된 온도에 노출되어 정확한 도핑 프로파일 (doping profile) 과 높은 장치 성능 (device performance) 이 생성됩니다. CX3000 의 뛰어난 기능 중 하나는 첨단 난방 장치 (Advanced Heating Unit) 로, 방사성 난방 요소를 활용하여 기판의 빠르고 균일한 난방을 달성합니다. 이렇게 하면 빠른 시간 (ram-up time) 과 엄격한 온도 조절 (tight temper control) 을 통해 프로세스 변동성을 줄이고 높은 품질의 결과를 얻을 수 있습니다. 그 에 더하여, 기계 에는 가열 요소 를 계속 조정 하여 원하는 프로세스 조건 을 유지 하는 고급 온도 모니터링 (Advanced Temperature Monitoring) 및 제어 장치 (Control Mechanism) 가 장착 되어 있다. CX-3000 은 뛰어난 가열 기능 외에도 다양한 혁신적인 기능을 제공하므로 성능과 다용성을 더욱 향상시킵니다 (영문). 이 공구에는 정밀 가스 전달 자산 (precision gas delivery asset) 이 장착되어 확산 과정에서 도펀트 가스 (dopant gase) 와 캐리어 가스 (carrier gase) 를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이를 통해 원하는 도펀트 (dopant) 프로파일이 재현성이 높아 장치 성능이 일관되게 유지됩니다. 또한, KOKUSAI CX3000 에는 프로세스 레시피 (recipe) 와 매개변수를 사용자 정의하여 특정 요구 사항을 충족하는 고급 프로세스 제어 모델이 포함되어 있습니다. 연산자는 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 온도 프로파일 (temperature profile), 가스 흐름 속도 (gas flow rate) 및 기타 프로세스 매개변수를 쉽게 프로그래밍하고 조정할 수 있으며, 서로 다른 기판 및 응용 프로그램에 대한 확산 프로세스를 최적화할 수 있습니다. KOKUSAI CX-3000은 생산성과 사용 편의성도 고려하여 설계되었습니다. 이 장비는 여러 기판을 동시에 처리하여 생산성 (productivity) 과 처리량 (throughput) 을 높일 수 있는 고출력 설계를 갖추고 있습니다. 또한 자동화된 로드 (loading) 및 언로드 (unloading) 메커니즘이 장착되어 수작업 처리를 줄이고 프로세스 흐름을 간소화합니다. 전체적으로 CX3000 은 다용도 및 고성능 확산 로로, 반도체 제조 애플리케이션을 위한 탁월한 제어, 반복성, 생산성을 제공합니다. 이 장치는 첨단 기술, 혁신적인 기능, 사용자 친화적인 설계를 통해 광범위한 확산 프로세스에 적합하며, 반도체 (Semiconductor) 제조업체가 효율성과 정확성을 갖춘 고품질 (high-quality) 결과를 얻을 수 있습니다.