판매용 중고 KOKUSAI CX-3000 #293762566

코쿠사이 (KOKUSAI) CX3000 은 고급집적회로의 대용량 생산을 위해 반도체 제조업체의 까다로운 요구사항을 충족시키기 위해 설계된 첨단 확산로 (diffusion furnace) 장비다. KOKUSAI CX-3000 은 탁월한 성능과 안정성을 제공하므로, 전 세계 주요 반도체 제조 설비에서 널리 사용되는 제품입니다. CX3000 은 직경이 최대 300mm 인 웨이퍼 (wafer) 를 효율적으로 처리할 수 있는 수직 용광로 설계를 갖추고 있습니다. 이 설계는 웨이퍼 표면에 걸쳐 탁월한 열 균일성을 제공하여 일관되고 정확한 확산 프로세스를 보장합니다. 이 시스템은 독립적으로 제어할 수 있는 여러 가열 영역 (heating zone) 을 갖추고 있어 특정 프로세스 요구사항에 맞춘 정밀한 온도 프로파일 (temperature profile) 을 제공합니다. CX-3000 의 주요 특징 중 하나는 첨단 가스 전달 장치 (Advanced Gas Delivery Unit) 로, 확산 시 프로세스 대기를 정확하게 제어합니다. 이 기계는 도펀트 가스 (dopant gase) 의 흐름을 높은 정확도로 조절하는 질량 흐름 컨트롤러 (mass flow controller) 를 장착하여 웨이퍼의 도펀트 농도에 대한 정확한 제어를 가능하게한다. 이 제어 수준 (level of control) 은 결과 장치에서 균일 한 도펀트 프로파일과 일관된 전기 성능을 달성하는 데 필수적입니다. 또한 KOKUSAI CX3000 은 대용량 Wafer Boat Loader 를 통해 여러 Wafer Carrier 를 동시에 수용할 수 있으며, 대용량 운영 환경에서 Wafer 를 효율적으로 로드하고 언로드할 수 있습니다. 로더에는 정교한 로봇 처리 도구 (robotic handling tool) 가 장착되어 있어 프로세스 챔버 내에서 완만한 웨이퍼 전송 및 정확한 위치를 보장합니다. 코쿠사이 (KOKUSAI) CX-3000 은 첨단 확산 기능 외에도 다양한 액세서리를 탑재해 기능· 다용도를 높일 수 있다. 이 액세서리에는 가스 캐비닛, 가스 정제 장치, 가스 감속 시스템 (gas cabinet, gas purifier, gas abatement system) 을 포함한 다양한 공정 가스 처리 시스템이 포함되어 있어 확산 공정에서 사용되는 공정 가스의 순도 및 안전성을 보장합니다. 이 자산은 프로세스 매개 변수의 현장 모니터링을 위한 다양한 도량형 (metrology) 툴과 통합되어, 확산 프로세스의 실시간 피드백 (feedback) 과 제어를 가능하게 합니다. CX3000 은 신뢰성 및 유지 보수 편의성에 중점을 두고 설계되었으며, 견고한 구성과 모듈식 (modular) 구성요소를 통해 간편한 액세스/서비스 기능을 제공합니다. 이 모델에는 고급 진단 (Advanced Diagnostic) 및 오류 감지 (Error Detection) 기능이 장착되어 있어 장비 고장 시 신속한 문제 해결 및 다운타임 최소화가 가능합니다. 전반적으로, CX-3000 은 최첨단 확산 로로 (diffusion furnace) 시스템으로, 고급 반도체 장치의 대용량 생산에 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다. 고급 기능, 정확한 제어 기능, 다양한 액세서리 옵션 등을 갖춘 KOKUSAI CX3000 은 운영 프로세스에서 높은 수율과 일관된 디바이스 성능을 제공하고자 하는 반도체 제조업체에게 이상적인 선택입니다 (영문).