판매용 중고 KE DD-1223 #293758360

KE DD-1223 확산로 (DD-1223) 는 반도체 소자의 정확한 제작을 위해 반도체 업계에서 널리 사용되는 최첨단 고성능 열 처리 장비입니다. 이 다재다능한 퍼니스는 반도체 제조에 필수적인 도펀트 활성화, 산화, 어닐링 및 기타 열 공정에 대한 제어 및 균일 한 확산 공정을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 기능과 기능을 갖춘 DD-1223 확산 로는 반도체 제작 설비를 위한 탁월한 성능, 안정성, 효율성을 제공합니다. KE DD-1223 확산 로의 핵심에는 강력한 석영 튜브 챔버 (quartz tube chamber) 가 있는데, 이는 열 처리 중 웨이퍼의 처리 환경 역할을합니다. 순도 높은 석영 재료는 우수한 열 단열과 화학 반응에 대한 내성을 보장하여 고온 응용에 이상적입니다. 관의 원통형 (cylindrical) 모양은 균일 한 가스 흐름 및 온도 분포를 가능하게하며, 전체 웨이퍼 표면에서 일관되고 신뢰할 수있는 프로세스 결과를 보장합니다. DD-1223 확산 로에는 공정 챔버 전체에서 정확한 온도 조절 및 균일 한 가열을 제공하는 최첨단 난방 시스템이 있습니다. 일반적으로 고품질 저항 와이어로 구성된 가열 요소는 전략적으로 쿼츠 튜브 (quartz tube) 주위에 배치되어 균일한 열 분포를 보장하고 온도 변화를 최소화합니다. 이를 통해 용광로 (furnace) 는 높은 정확도와 안정성으로 원하는 공정 온도를 달성하고 유지할 수 있으며, 재현성과 고품질 공정 결과를 달성하는 데 필수적입니다. 확산 과정을 용이하게하기 위해, KE DD-1223 확산 로에는 도펀트 가스, 산화제 및 기타 공정 가스를 챔버에 도입 할 수있는 정교한 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 가 장착되어 있습니다. "가스 '의 흐름 을 정확 하게 조절 하고 감시 하여" 웨이퍼' 주위 의 "가스 '의 적당 한 농도 와 분포 를 보장 하고, 정확 한 도펀트' 활성화, 산화 및 기타 열 과정 을 가능 케 한다. 가스 배달기 (Gas Delivery Machine) 는 프로세스 사용자 정의의 유연성을 제공하도록 설계되었으며, 이를 통해 사용자는 프로세스 매개변수를 특정 구성 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. DD-1223 확산 퍼니스 (DD-1223) 는 첨단 난방 (heating) 및 가스 전달 (gas delivery) 시스템 외에도 포괄적인 공정 제어 도구를 통해 사용자가 전체 열 처리 주기를 프로그래밍 및 모니터링할 수 있도록 합니다. 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 온도 설정 (temperature setpoint), 가스 흐름 속도 (gas flow rate), 프로세스 시간 (process time), 램프 속도 (ramp rate) 등 다양한 프로세스 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있으므로 확산 프로세스를 정확하게 제어하고 최적화할 수 있습니다. 프로세스 데이터의 실시간 모니터링 및 로깅을 통해 자산의 신뢰성, 반복성 (repeatability) 을 더욱 높일 수 있으며, 사용자는 프로세스 성능을 추적하고 문제를 신속하게 해결할 수 있습니다. KE DD-1223 확산 용광로 (DD-1223) 는 다양한 액세서리와 옵션으로 보완되어 기능 및 다용도를 더욱 향상시킵니다. 여기에는 웨이퍼 처리 시스템, 가스 정화 장치, 배기 가스 시스템 (Exhaust Abatement System), 고급 프로세스 제어 소프트웨어 (Advanced Process Control Software) 등이 포함됩니다. DD-1223 확산은 견고한 설계, 최첨단 기능, 뛰어난 성능을 바탕으로 반도체 제조 응용프로그램을 위한 열 처리 (thermal processing) 기술의 새로운 표준을 제시합니다.