판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF #293744319

HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF는 반도체 제조 및 기타 산업 응용 분야를 위해 설계된 최첨단 확산 로로, 정확한 재료 열 처리가 필요합니다. 이 고급 장비는 온도 균일성 (Exceptional Temperity) 및 프로세스 제어 기능을 제공하여 일관성과 신뢰성이 가장 중요한 대용량 생산 환경에 적합합니다. HITACHI Quixace DJ-1226V-DF는 다양한 웨이퍼 크기와 재료를 수용 할 수있는 여러 공정 튜브를 갖춘 수직 용광로 구성을 특징으로합니다. 이 시스템에는 고성능 난방 요소 (HPE) 와 가스 전달 장치 (Gas Delivery Unit) 가 장착되어 있어 웨이퍼 스택을 빠르고 균일하게 가열할 수 있습니다. 용광로 (furnace) 의 수직 설계는 웨이퍼 (wafer) 처리를 최소화하고 처리량을 최대화하여 대규모 생산 시설을 위한 비용 효율적인 솔루션입니다. KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF의 주요 기능 중 하나는 고급 온도 조절 머신 (Temperature Control Machine) 으로, 전체 열 주기에서 정확하고 안정적인 프로세스 조건을 보장합니다. 이 도구에는 여러 개의 열 영역 (thermal zone) 과 독립적인 셋포인트 제어 (setpoint control) 가 장착되어 있으므로 사용자정의된 온도 프로파일이 각 프로세스 단계의 특정 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 이러한 제어 수준은 반도체 제조에서 일관되고 안정적인 결과를 달성하는 데 필수적입니다. Quixace DJ-1226V-DF는 온도 조절 기능 외에도 도펀트 가스, 산화제, 비활성 가스 등 다양한 공정 가스 옵션을 제공합니다. 자산에는 정밀 가스 흐름 제어기와 질량 (mass flow) 미터가 장착되어 있어 정확하고 반복 가능한 프로세스 조건을 보장합니다. 이러한 유연성을 통해 어닐링 (annealing), 산화 (oxidation) 및 질화 (nitridation) 를 포함한 광범위한 확산 과정을 높은 정밀도로 수행 할 수 있습니다. HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF 는 사용 편의성과 유지 관리를 위해 설계되었으며, 사용이 간편한 인터페이스로, 직관적인 운영 및 프로세스 매개 변수 실시간 모니터링이 가능합니다. 이 모델에는 가스누출 감지 (Gas Leak Detection) 및 온도외 보호 (Over-Temperature Protection) 를 포함한 고급 안전 기능이 장착되어 있어 운영자의 안전성과 제조 공정의 무결성을 보장합니다. 결론적으로 HITACHI Quixace DJ-1226V-DF는 반도체 제조 및 기타 산업 분야에 탁월한 성능, 유연성, 신뢰성을 제공하는 최첨단 확산 로입니다. 고급 온도 조절 장비 (Temperature Control Equipment), 정확한 가스 전달 기능, 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface) 를 갖춘 이 시스템은 일관성 있고 고품질 결과를 얻기 위해 대용량 생산 시설에 이상적인 솔루션입니다.