판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI DJ-823V #9157635

HITACHI/KOKUSAI DJ-823V는 반도체 장치에 사용되는 복잡한 웨이퍼 및 전자 부품을 생산하도록 설계된 확산 로입니다. HITACHI DJ-823V 는 고급 설계를 통해 사용자에게 뛰어난 처리 품질과 제어 기능을 제공합니다. 최대 1300 ° C의 온도에 도달할 수 있으며, 고정밀 컴퓨터 제어 열 공정 (high-precision computer-controlled thermal process) 과 같은 고급 제어 기능을 통합합니다. 또한 고온 기능 및 웨이퍼 본드 (Wafer Bond), 리플로우 (Refrow) 및 웨이퍼 스파이스 (Wafer Spice) 를 포함한 표준 처리 기능이 있습니다. 코쿠사이 DJ-823V (KOKUSAI DJ-823V) 에는 용광로와 용광로 주변 환경 모두를 보호하는 전자 작동 방식 핫 쉴드가 장착되어 있습니다. 또한, DJ-823V에는 에너지 변동 중에도 안정적인 작동을 보장하는 고급 열 모니터링 장비가 장착되어 있습니다. 이 모니터링 시스템은 내부 온도, 압력 값, 장치 전류 (electric current) 를 모니터링하고 긴급 상황에서 전원을 차단합니다. HITACHI/KOKUSAI DJ-823V는 오염 설계도 낮습니다. 모든 내부 구조는 온화하거나 낮은 증착 코팅으로 도금됩니다. 또한, 용광로 챔버는 아웃가스 및 먼지 혼합을 방지하기 위해 특수 밀봉 재료로 구성됩니다. 이것 은 용광로 의 대기 가 깨끗 하고 오염 물질 이 없도록 보장 해 준다. HITACHI DJ-823V에는 확산 공정 용 쿼츠, 세라믹 모듈, 고온 절연 바흐, 웨이퍼 공정 용 기계식 암 등 다양한 액세서리가 제공됩니다. 또한 비활성 가스 빌드 업 장치 (inert gas build-up unit) 와 처리 후 재료 처리를 위한 냉각기 (cooling machine) 를 포함한 다양한 프로세스 시스템과 호환됩니다. KOKUSAI DJ-823V 의 제어판 (Control Panel) 에는 직관적인 인터페이스가 있어 프로세스 매개변수를 빠르고 쉽게 설정, 관리할 수 있습니다. 또한, 이 패널을 사용하면 통합 컨트롤러에 원격으로 액세스하고, 열 챔버 (thermal chamber) 에서 얻은 데이터를 관찰할 수 있습니다. 즉, 사용자는 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 모든 위치에서 관리할 수 있습니다. DJ-823V 확산 로는 모든 반도체 프로세스에 강력하고 안정적인 도구입니다. HITACHI/KOKUSAI DJ-823V 는 최신 모니터링 및 제어 기능, 빠른 처리 속도, 저해상도 설계 등을 갖추고 있어 최고의 표준을 충족하는 고품질 (HITACHI/KOKUSAI) 구성요소를 생산하는 데 필수적인 툴입니다.