판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI DJ 802V #293818885

HITACHI/KOKUSAI DJ 802V 확산 로는 고급 집적회로 제작을 위해 반도체 업계에 사용되는 최첨단 장비입니다. 이 확산 로 (diffusion furnace) 는 확산 과정을 정확하게 제어하여 반도체 재료의 균일 한 도핑이 반도체 소자 제조에 필수적인 특정 전기 특성을 달성 할 수있게한다. HITACHI DJ 802V (HITACHI DJ 802V) 는 다양한 Wafer 크기를 수용할 수 있어 반도체 제조 시설에서 대용량 생산에 적합합니다. KOKUSAI DJ 802V 확산 로에는 프로세스 효율성과 제품 품질을 최적화하는 최첨단 디자인이 있습니다. 용광로 챔버 (furnace chamber) 는 처리 중 순도를 보장하기 위해 고순도 석영으로 구성되어 장치 성능에 부정적인 영향을 줄 수있는 오염을 방지합니다. 방은 일련의 전기 저항 히터 (electric resistance heater) 를 사용하여 가열되어 확산 과정 전반에 걸쳐 정확한 온도 조절이 가능합니다. 또한, DJ 802V에는 전동식 웨이퍼 처리 장치 (Motorized Wafer Handling Equipment) 가 장착되어 있어 일관된 웨이퍼 로딩 및 언로드를 보장하여 반도체 재료를 섬세하게 손상시킬 위험이 줄어듭니다. HITACHI/KOKUSAI DJ 802V의 주요 특징 중 하나는 고급 가스 전달 시스템 (Advanced Gas Delivery System) 으로, 확산 과정에서 도펀트 가스 및 캐리어 가스의 흐름을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 제어 수준 (level of control) 은 반도체 재료의 도펀트 농도 (dopant concentration) 를 달성하기 위해 필수적이며, 최종 장치는 엄격한 성능 요구 사항을 충족시킵니다. HITACHI DJ 802V 는 또한 다양한 가스 흐름 모니터링 및 제어 기능을 제공하며, 이를 통해 운영자는 프로세스 매개 변수를 실시간으로 조정하여 확산 결과를 최적화할 수 있습니다. KOKUSAI DJ 802V 확산 로에는 운영자를 보호하고 장비 손상을 방지하기 위해 포괄적인 안전 기능이 장착되어 있습니다. 이 용광로 에는, 고장 이 생기거나 다른 위험 한 상태 에 있을 경우, 즉시 확산 과정 을 중단 할 수 있는 비상 셧다운 장치 (emergency shutdown unit) 가 장착 되어 있다. 또한, DJ 802V (gas leak detection sensor) 는 가스 전달 기계의 누출을 신속하게 식별하고 해결하여 유해 또는 가연성 기체에 노출 될 위험을 최소화 할 수있는 가스 누출 감지 센서를 포함합니다. HITACHI/KOKUSAI DJ 802V 는 코어 (core) 확산 용광로 장치 외에도 다양한 액세서리와 업그레이드 (옵션) 를 지원하여 기능 및 성능을 향상시킵니다. 이러한 액세서리에는 추가 가스 흐름 컨트롤러, 고급 온도 모니터링 시스템, 프로세스 자동화 및 데이터 관리 향상을 위한 소프트웨어 업그레이드가 포함될 수 있습니다. HITACHI DJ 802V 는 다른 반도체 제조 장비 (예: 증착 도구, 도량형 시스템) 와도 통합되어, 특정 제조 요구 사항에 맞게 완벽하게 통합된 운영 라인을 만들 수 있습니다. 전체적으로 KOKUSAI DJ 802V 확산 로는 반도체 제조업체가 고품질의 집적회로 (dopant profile) 를 생산하고자 하는 안정적이고 효율적인 도구입니다. 첨단 디자인, 정밀한 공정 제어 (process control), 안전 (safety) 기능을 통해 반도체 제작 시설의 귀중한 자산이 지속적으로 발전하는 업계에 앞서고 있습니다.