판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI DJ-1223VN #9377453

HITACHI/KOKUSAI DJ-1223VN은 확산 용광로 및 액세서리 패키지입니다. 확산 용광로 는 저압 과 고온 환경 을 이용 하여 "도핑 '제 를 반도체" 웨이퍼' 로 확산 하여, 고성능 장치 를 형성 한다. HITACHI DJ-1223VN 패키지에는 기본 확산 로우, 최고 로딩 초고진공 커버, 500W 램프 어셈블리, 쿼츠 튜브, 배기 후드, 배기 팬, 절연 및 작동에 필요한 모든 제어 회로가 포함됩니다. 확산 로의 염기는 NF2600A 고온 합금으로 구성되며, 이 합금은 최대 2400 ° C의 온도를 견딜 수 있으며, 우수한 열 효율을 위해 낮은 방사선 손실 구조로 설계되었습니다. 초고 진공 덮개는 깨끗한 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 5 x 10-6 Torr의 진공과 함께 사용하도록 설계되었습니다. 램프 어셈블리는 제어 회로에서 디지털로 제어 할 수있는 500W 할로겐 램프로 구성됩니다. 이를 통해 다양한 응용 프로그램에 대한 램프 강도를 정확하게 선택할 수 있습니다. 쿼츠 튜브 (quartz tube) 는 처리 중 웨이퍼를 볼 수 있도록 설계되었으며, 초고진공을 제공하면서 광학 피로미터에 연결되도록 설정되어 있습니다. 배기 후드 (exhaust hoood) 는 확산 로에 깨끗한 공기를 공급하는 데 사용되며, 배기 팬 (exhaust fan) 은 프로세스에서 생성 된 가스를 연산자에서 끌어 당기는 데 사용됩니다. 확산 로에서 열의 전달을 막는 데 사용되는 절연체는 MN 세르콘 (MN sercon) 과 알루미늄 보드 (aluminum board) 로 제조되며, 외부 소스에서 열을 멀리하면서 뛰어난 열 안정성과 높은 기계적 강도를 제공합니다. 램프 (lamp) 어셈블리를 작동시키는 데 사용되는 제어 회로와 패키지의 다른 부품은 전원 공급 장치, 고전압 (high voltage) 전원 조절기, 디지털-아날로그 (digital-analog) 집적 회로로 구성되며, 모두 작동 공정의 정밀 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 전반적으로 KOKUSAI DJ1223VN은 뛰어난 확산 용광로 및 액세서리 패키지입니다. 이 장치를 사용하면 반도체 웨이퍼 (wafer) 에서 도핑 프로세스를 정확하게 제어할 수 있으며, 고성능 장치를 만드는 데 매우 효율적이고 안정적인 도구를 제공합니다.