판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DF #9377433

HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN-DF는 다양한 어플리케이션을 위한 고급 기능을 갖춘 최첨단 확산 로입니다. 확산 용광로는 고급 진공 장비를 사용하여 웨이퍼에 박막 층을 배치합니다. 이 기술은 마이크로프로세서 (microprocessor) 와 같은 고성능 장치와 대규모 집적회로 생산에 사용됩니다. HITACHI DJ-1206VN-DF는 매우 정확한 처리 성능을 제공합니다. 이는 1 x 10-7 Torr 보유 진공을 달성 할 수있는 고품질 진공 시스템 때문입니다. 또한, 확산 용광로는 ± 1 ° C의 놀라운 온도 균일성을 특징으로하며 최대 1250 ° C의 온도에 도달 할 수 있습니다. 온도 균일성 외에도, KOKUSAI DJ-1206VN DF에는 내부 열을 효율적으로 전달하고 열 불안정성을 줄이기 위해 튜닝 된 인슐레이션 장치 (insulation unit) 가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 처리 중에 일관되고 정확한 온도 프로파일이 유지되므로 고품질 (High-Quality) 제품의 수율이 높아집니다. KOKUSAI DJ-1206VN-DF는 또한 몰리브덴 (molybdenum) 및 흑연 방패가있는 통합 흑연 서셉터를 특징으로하여 열 복사에 대한 효과적인 버퍼를 제공합니다. 공정 기판 과 "웨이퍼 '를 더 쉽게 도입 하고 추출 하기 위하여" 서셉터' 를 "레일 '에서 올리고 낮춘다. 더우기, "디퓨저 '는 보다 일관성 있는 증착 을 얻기 위하여" 서셉터' 를 통하여 "웨이퍼 '를 더 잘 회전 시키기 위하여 회전 동력" 턴테이블' 을 갖추고 있다. 또한 DJ-1206VN DF 에는 미리 정의된 setpoint 를 통해 기계의 전력 흡수를 모니터링, 모니터링하고 측정할 수 있는 PCU (Integrated Power Control Unit) 가 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 처리 결과의 정확성과 반복성이 향상됩니다. 마지막으로, HITACHI DJ-1206VN DF 는 여러 액세서리에 의해 더욱 향상되어, 사용자에게 확산 프로세스를위한 포괄적인 도구를 제공합니다. 액체 질소 원, 가스 공급 자산 및 공정 가스 모니터링 모델이 포함됩니다. 확산 로에는 프로세스 자동 제어 (Automated Process Control), 프로세스 매핑 및 튜닝 알고리즘 (Tuning Algorithm) 과 같은 기능이 포함되어 있어 가장 좋은 처리 결과를 얻을 수 있습니다. 결론적으로, DJ-1206VN-DF는 고급 기능과 액세서리를 갖춘 뛰어난 확산 로입니다. 고정밀 진공 장비, 온도 균일성, 절연 시스템 및 통합 흑연 서셉터가 결합하여 효율적이고 정확한 단위를 제공합니다. 또한, 액체 질소 원 (액체 질소 원) 및 공정 가스 모니터링 기계 (process gas monitoring machine) 를 포함한 다양한 액세서리가 공구의 잠재력을 더욱 확대합니다. 이러한 기능을 통해 HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN DF는 모든 확산 기반 프로세스에 이상적인 선택이 됩니다.