판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI DD-803V #293633553
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ID: 293633553
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1998
Vertical furnace, 8"
Atmospheric controller
Hand controller
CX2000 Controller
SECM / GEM Communication: Serial
Utility cabinet
CQ1501 Temperature controller
(4) Zones
D4EX02728 Heater
Process temperature: 700°C-1000°C
Flatzone length: 952.50 mm
Process tube material: Quartz
Wafer boat material: Quartz
Tube seal configuration: N2 Flow
R-Type thermocouple
Exhaust controller
Transformer
Temperature control:
P: 0.1~200%
I: 0.01-100.00 min
D: 0.00-10.00 min
Load station:
WIP Carrier capacity: 16
Wafer spacing: 5.20 ±0.05 mm
Load size: 150-Slots
Boat rotation
Process gas control system:
External torch
H2 Burn off
Bubbler
Process gas (Atmosperic):
MFC Model: SEC-Z500, SEC-4500, SEC-4400 / Analog
Process gas: N2, H2, Ar, O2, N2O
SCHUMACHER ATCS 15 Bubbler system
Other gases: UN2 (Air/N2)
Input power supply:
Heater: 208VAC, 50KVA, Single phase
Controller: 100VAC, 4KVA, Single phase
Clean Unit: 100VAC, 1.5KVA, Single phase
Start-up PSU: 24VDC
1998 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-803V 확산 로는 반도체 제조업체를 위한 고급, 신뢰성, 효율적인 도구입니다. 이 퍼니스는 가스-플로우 (gas-flow) 유형 설계를 특징으로하며 다양한 고온 확산 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 빠른 속도, 높은 재현성 및 냉각 기능을 제공합니다. 용광로에는 가스-플로우 (gas-flow) 유형의 디자인이 포함되어 있어 재료의 안전하고 심지어 가열과 냉각이 가능합니다. 또한 온도 컨트롤러, 흐름 컨트롤러, 압력 컨트롤러 등 여러 컨트롤러가 포함되어 있습니다. 용광로는 온도 범위가 넓으며 최대 1500 ° C에서 작동 할 수 있습니다. 고급 교반 (advanced stirring) 및 혼합 (mixing) 기술이 특징이며 재료에 균일 한 열분포가 가능합니다. 용광로 에는 또한 보호 "쿼츠 '관 이 있어서 진공 환경 에서 작동 할 수 있다. 용광로 에는 간접 기계 장치 (Overnead Mechanical System) 가 장착 되어 있는데, 용광로 를 쉽게 이동 시키고 적재 할 수 있도록 설계 되었다. 용광로에는 내장 열 절연 시스템 및 과열 경보 (over-temperature alarm) 와 같은 여러 안전 기능도 포함되어 있습니다. 용광로에는 타이머, 저온 경보, 고온 경보, 퍼지 타이머 (purge timer) 등 여러 가지 추가 기능도 포함됩니다. 이 용광로는 자동 제어 시스템 (automated control system) 을 갖추고 있어 프로세스를 세밀하게 제어할 수 있습니다. HITACHI DD-803V 확산 로에는 냉각 패키지, alleid chuck, isolator 등 다양한 액세서리가 제공됩니다. 냉각 "패키지 '를 이용 하면, 용광로 를 신속 하고 효율적 으로 식힐 수 있으며, 골반" 척' 은 용광로 에 있는 기판 을 안전 하게 고정 시키는 데 도움 이 된다. 분리기는 오염으로부터 기판을 보호하는 데 사용됩니다. 전반적으로 KOKUSAI DD-803V 확산 로는 반도체 제조를 위해 안정적이고 효율적이며 안전한 도구입니다. 다양한 온도 범위, 고급 스트 링 (stirring) 및 믹싱 기술, 다중 컨트롤러, 다양한 액세서리를 제공하여 균일 한 확산 프로세스를 보장합니다.
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