판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI DD-802 #9350649

HITACHI/KOKUSAI DD-802는 강력하고 신뢰할 수있는 확산 로와 액세서리로, 다양한 재료의 증착, 산화, 질소, 어닐링을위한 산업 및 실험실 설정에 일반적으로 사용됩니다. 이 프로토 타입 장비는 고온, 정밀로와 최첨단 유도 난방 기술을 결합하여 사파이어, Si, Ge 등의 고가 기판을 효율적으로 처리 할 수 있습니다. HITACHI DD-802는 최대 2000 ° C의 온도를 달성 할 수 있으며, 난방 과정에서 높은 수준의 균일성과 안정성을 유지하도록 특별히 설계되었습니다. 이 시스템은 또한 다양한 요구 사항에 맞게 쉽게 조작 할 수있는 다양한 맞춤형 기판 (Substrate) 크기를 갖추고 있습니다. 온도 조절, 가열의 균일성 및 구조적 유연성의 조합으로 인해 KOKUSAI DD-802는 유기 및 무기 재료의 확산에 최적입니다. 용광로 는 두께 가 4 "센티미터 '나 되는 고급" 세라믹' 재질 로 부분적 으로 만들어져 있는데, 이것 은 열손실 과 오염 에 대한 훌륭 한 단열재 를 제공 하는 데 도움 이 된다. 또한, 높은 진공 장치 는 낮은 부분 의 산소 압력 을 유지 하는 데 도움 이 되며, O2 검출기 는 대기 의 부분적 압력 이 정합성 을 유지 할 수 있도록, 그리고 정해진 "파라미터 '내 에 있게 한다. 확산 용광로는 최첨단 PID (비례 적분 파생) 사이클링 제어 자동화로 인해 향상된 정확성과 기능을 제공합니다. 이 기계는 가열 단계에서 온도를 지속적으로 조정하는 한편, 운영자가 로컬 (local) 디스플레이와 원격 (remote) 디스플레이 모두에서 프로세스를 모니터링할 수 있도록 합니다. 확산 로의 신뢰성과 성능을 보장하기 위해 HITACHI 는 수많은 유지 보수/판매 후 (after-sales) 서비스를 제공합니다. 이러한 서비스에는 기술 지원, 예방 유지 보수 및 신속한 응답 복구가 포함됩니다. 또한, 이 회사는 다양한 전문 교육 과정 (Professional Training Course) 을 통해 고객의 툴을 최대한 활용하고 최상의 결과를 얻을 수 있도록 지원합니다 (영문). 전반적으로 DD-802 (DD-802) 는 지능적이고 강력한 확산 로로, 환경이나 기판에 관계없이 사용자에게 일관된 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 이 자산은 균일성, 정확성 및 고온 처리가 필요한 산업 프로세스에 이상적입니다.