판매용 중고 HITACHI KOKUSAI DD-1223VN #9293898

HITACHI KOKUSAI DD-1223VN은 확산 프로세스를 위해 특별히 설계된 고성능 확산 로입니다. 반도체 기기에서 다른 제품 (예: 웨이퍼, 파우더, 박막) 에 이르기까지 다양한 제품을 처리할 수 있습니다. 광로의 반원자로 챔버 (semi-reactor chamber) 에서는 고출력 확산 과정이 가능하여 높은 수준의 효율과 전력을 제공합니다. 흑연 가열 요소 (graphite heating element) 를 갖춘 내구성 스테인리스 스틸 (stainless steel) 구조로 고온 상태에서도 안정적인 작동을 보장합니다. 용광로에는 두 개의 독립적 인 컨트롤러가 있으며, 이를 통해 효과적인 가열 제어, 온도 프로파일 설정, 주기 반복이 가능합니다. 이 용광로에는 안전 장치가 내장되어 있는데, 이는 반도체 소자 생산 환경에서 확산 용광로 (diffusion fornace) 를 사용할 때 필수적입니다. 이는 폭발이나 다른 사고가 발생할 가능성이 없어도 안전하고 안정적인 작동을 보장합니다. 또한 산소가 프로세스 영역에 들어가지 않도록 자동 가스 차단 시스템 (automatic gas shut-off system) 이 있습니다. DD-1223VN의 가장 인상적인 기능 중 하나는 뛰어난 정확성과 반복 성입니다. 이를 통해 확산 프로세스가 검증되고 신뢰할 수 있습니다. 용광로는 또한 뛰어난 온도 균일성을 가지고 있으며, 이 과정에서 소위 "핫스팟" 은 항상 피합니다. 또한, 용광로는 2 개의 독립적 인 온도 센서 (K 형 열전대) 와 2 개의 독립적 인 가스 라인을 특징으로하며, 이는 용광로의 다른 영역에서 동시에 2 개의 다른 가스를 사용할 수 있음을 의미합니다. 이를 통해 동일한 기판에 여러 계층의 확산 프로세스가 가능합니다. 또한, 가스 흐름 및 농도를 정확하게 제어 할 수있는 가스 믹싱 챔버 (gas mixing chamber) 가 있습니다. 확산 과정의 최고 효율성을 보장하기 위해, 퍼니스는 또한 고정밀 가스 분사 시스템 (high-precision gas injection system) 을 갖추고 있습니다. 이것 은 "가스 '를 적절 히 주사 하여 약실 전체 에 분포 시켜서 균질 한" 가스' 를 만든다. 게다가, 불활성 "가스 '는 안전 과 균일 한 공정 조건 을 더하기 위해 용광로 쪽 의" 입구' 를 통해 공급 될 수 있다. 마지막으로, HITACHI KOKUSAI DD-1223VN 에는 저비용, 동일하지 않은 현장 설치 서비스도 포함되어 있어 설치 프로세스가 가능한 한 쉽습니다. 이러한 기능을 통해, 이 확산 로는 탁월한 성능과 안정성을 제공하므로, 어떠한 애플리케이션에서도 사용할 수 있습니다.