판매용 중고 HITACHI / KOKUSAI CX 9620 #293762017

HITACHI / KOKUSAI CX 9620
ID: 293762017
Diffusion furnace.
HITACHI/KOKUSAI CX 9620 은 최신 집적 회로 제작의 까다로운 요구 사항을 충족하기 위해 반도체 업계를 위해 설계된 고성능 확산 로입니다. HITACHI CX 9620 은 반도체 제조 공정에서 중요한 장비로, 확산 프로세스 (diffusion process) 와 고품질의 결과를 정확하게 제어할 수 있는 고급 기능과 기능을 제공합니다. KOKUSAI CX 9620 확산 로의 주요 특징 중 하나는 강력한 구성 및 설계로, 효율성, 안정성, 안정성에 최적화되어 있습니다. 고로 (furnace) 는 확산 과정에서 일반적으로 발생하는 고온과 열악한 화학 환경을 견딜 수있는 고품질 (high-quality) 재료를 사용하여 제작되었습니다. 이는 장기적인 내구성과 일관된 성능을 보장하며, 반도체 제조업체의 다운타임 및 유지 보수 비용을 줄여줍니다. CX 9620 확산 로에는 고급 난방 (heating) 및 가스 흐름 제어 시스템 (gas flow control system) 이 장착되어 있어 가공실 전체에 걸쳐 정밀한 온도 조절 및 균일 한 가스 분포가 가능합니다. 이것은 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에서 정확하고 반복 가능한 확산 프로파일을 달성하는 데 필수적이며, 이는 반도체 장치의 성능에 중요합니다. 퍼니스는 다양한 공정 가스 (process gase) 와 도펀트 (dopant) 를 수용할 수 있으며, 유연성과 정확도가 높은 광범위한 확산 프로세스를 수행 할 수 있습니다. HITACHI/KOKUSAI CX 9620 확산 로에는 첨단 난방 및 가스 유동 제어 시스템 (HITACHI/KOKUSAI CX 9620) 뿐만 아니라, 장비와 운영자의 보호를 보장하는 포괄적인 안전 장치 및 모니터링 시스템이 있습니다. 용광로에는 온도 및 압력 센서 (gas leak detector) 와 가스 누출 탐지기 (set parameters) 의 이상이나 편차를 감지하기 위해 온도와 압력 센서가 장착되어 있습니다. 비상사태가 발생할 경우, 용광로는 자동으로 폐쇄되고 안전 (Safety) 프로토콜을 활성화하여 위험 (Potential Hazard) 을 방지할 수 있습니다. HITACHI CX 9620 (HITACHI CX 9620) 확산 로는 사용 편의성과 유지 관리를 위해 설계되었으며, 사용자 친화적인 인터페이스와 직관적인 제어 기능을 통해 운영자들이 최소한의 노력으로 확산 프로세스를 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 이 퍼니스에는 프로세스 매개변수에 대한 실시간 데이터를 제공하고 손쉽게 조정하고 문제를 해결할 수 있는 터치스크린 제어판 (touchscreen control panel) 이 장착되어 있습니다. 또한 이동식 (Removable) 패널과 부품을 신속하게 서비스하고 교체할 수 있는 부품 (Component) 을 통해 쉽게 액세스하고 유지 관리할 수 있도록 설계되었습니다. 또한, KOKUSAI CX 9620 확산 로는 다양한 액세서리 및 자동화 시스템과 통합되어 기능과 생산성을 더욱 높일 수 있습니다. 로보 틱 웨이퍼 로딩 시스템 (robotic wafer loading system), 자동화된 프로세스 제어 소프트웨어 (automated process control software), 데이터 로깅 도구 (data logging tools) 등의 옵션을 용광로에 추가하여 확산 프로세스를 간소화하고 처리량을 높일 수 있습니다. 이러한 액세서리를 통해 반도체 제조업체는 생산 운영에서 더 높은 효율성과 일관성을 얻을 수 있습니다. 전반적으로, CX 9620 확산 로는 반도체 제조업체가 반도체 장치의 정확하고 균일한 확산 프로세스를 달성하고자 하는, 안정적이고 고성능 도구입니다. HITACHI/KOKUSAI CX 9620 은 고급 기능, 견고한 구성, 사용자 친화적 설계를 통해 반도체 업계의 광범위한 확산 애플리케이션을 위한 다목적 솔루션으로, 고품질 반도체 제품을 구현하는 데 필수적인 툴입니다.
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