판매용 중고 GE 214 #293818404

GE 214 (GE 214) 는 반도체 업계에서 확산 용광로 및 액세서리 제작에 널리 사용되는 재료입니다. 이 재료는 고순도 융합 석영 유리 (high-purity fused quartz glass) 의 한 유형으로, 뛰어난 열 및 화학적 특성을 제공하여 고온 및 화학 저항이 필요한 응용에 이상적입니다. 214 개의 성분은 주 성분으로 이산화규소 (SiO2) 로 구성되며, 불순물이 최소화되어 최고 수준의 순도 및 성능을 보장합니다. 이 재료 는 제어 된 융합 과정 을 통해 주 의 깊이 제조 되며, 그 결과 결함 과 포함 이 낮은 균질 하고 내구성 있는 유리 (glass) 가 생긴다. GE 214 로 만든 확산 용광로 는 특히 "도판트 '를" 실리콘 웨이퍼' 에 투입 하여 그 전기 특성 을 수정 하는 "반도체 '제조 공정 에서 중요 한 장비 이다. 용광로는 고온 (일반적으로 섭씨 800 ~ 1200도) 에서 작동하며, 웨이퍼 표면에 균일 한 확산 프로파일을 보장하기 위해 제어 된 대기를 유지하도록 설계되었습니다. 확산 용광로에서 214를 사용하면 몇 가지 주요 이점이 있습니다. 첫째, 높은 열 충격 저항으로 인해 용광로는 구조적 무결성 (structural integrity) 을 손상시키지 않고 빠른 온도 변동에 견딜 수 있습니다. 이것은 반도체 장치 제작에서 정확하고 재현 가능한 확산 프로세스를 달성하는 데 필수적입니다. 또한, GE 214는 우수한 화학 관성을 가지고 있으며, 이는 반도체 처리 환경에서 일반적으로 사용되는 부식 가스와 증기에 강합니다. 이 화학적 안정성 은 확산 과정 의 순도 를 보장 해 주며, "실리콘 '" 웨이퍼' 의 오염 을 방지 해 주며, 수율 이 높아지고 장치 성능 이 향상 된다. 광학 특성 측면에서, 214는 자외선 (UV) 에서 근적외선 (NIR) 파장 범위에서 높은 투과율을 나타내며, 광학 센서를 사용하여 확산 과정을 실시간으로 모니터링 및 제어 할 수 있습니다. GE 214의 광학 선명도를 통해 용광로 챔버 내부의 정확한 온도 측정 및 프로세스 시각화 (Visualization), 프로세스 제어 및 반복성 향상. "튜브 ', 막대, 맞춤형 부품 등 214 개 로 만든" 액세서리' 역시 확산 용광로 "시스템 '내 의 여러 가지 기능 을 지지 하는 데 중요 하다. 이 구성 요소는 고온, 화학 물질 노출, 기계적 스트레스 (mechanical stress) 등 용광로 챔버 내부의 가혹한 상태를 견딜 수 있도록 설계되었습니다. GE 214 액세서리의 정밀 머시닝 및 연마 (polishing) 는 단단한 공차와 부드러운 표면을 보장하여 작동 중 입자 생성 및 오염을 방지합니다. 전반적으로 214 개의 확산 용광로 (diffusion fornace) 와 액세서리 (accessory) 는 고성능 전자 기기 생산을 위해 정확하고 안정적인 확산 프로세스를 통해 반도체 기술을 발전시키는 데 중요한 역할을합니다. GE 214의 뛰어난 열, 화학, 광학 특성 (optical properties) 은 제조 작업에서 우수한 성능 및 공정 제어를 추구하는 반도체 장비 제조업체에게 선호되는 물질입니다.