판매용 중고 CENTROTHERM PECVD System #293760588

CENTROTHERM PECVD 장비는 제어 환경에서 기판에 박막을 정확하고 재현 할 수 있도록 설계된 최첨단 PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 시스템입니다. 이 장치는 고급 반도체 장치, 태양 광 발전 장치 및 기타 전자 부품의 제작에 중요한 균일하고 고품질의 박막 코팅 (Thin Film Coating) 을 제공하는 대용량 생산 환경을 위해 특별히 설계되었습니다. PECVD 머신 (PECVD Machine) 의 핵심에는 열 에너지와 플라즈마 강화 (plasma-enhanced) 프로세스의 조합을 사용하여 뛰어난 균일성과 정밀도로 박막 증착을 촉진하는 최첨단 확산 로가 있습니다. 이 도구에는 여러 가열 영역 (hating zone), 가스 흐름 제어 장치 (gas flow control unit) 및 정교한 프로세스 제어 소프트웨어가 장착되어 있어 최적의 프로세스 조건과 필름 특성을 보장합니다. CENTROTHERM PECVD Asset 내의 확산 로는 고온 기능을 갖춘 견고한 설계로, 질화 실리콘, 이산화실리콘, 탄화 실리콘, 기타 다양한 화합물 반도체를 포함한 광범위한 물질을 증착 할 수 있습니다. 용광로에는 전구체 가스, 반응물, 반송파 기체의 정확한 제어를 보장하는 고급 가스 전달 시스템 (advanced gas delivery system) 이 장착되어 두께, 구성, 굴절률 등의 맞춤형 특성을 가진 박막 (thin film) 의 증착이 가능합니다. PECVD 모델 (PECVD Model) 의 주요 장점 중 하나는 증착 과정에서 안정적인 플라즈마 환경을 생성하고 유지하는 능력입니다. 장비에 통합 된 플라즈마 소스는 전구체의 반응성을 향상시키고 표면 반응을 촉진시켜 필름 접착, 밀도, 균일 성을 향상시킵니다. 플라즈마 강화 증착 공정 (plasma enhanced deposition process) 은 또한 더 낮은 온도에서 박막의 성장을 가능하게하며, 기판의 열 스트레스를 최소화하고 유리, 실리콘 웨이퍼, 유연한 기판을 포함한 광범위한 물질에서 필름의 증착을 허용합니다. CENTROTHERM PECVD 시스템에는 고급 모니터링 및 제어 (Control) 기능이 추가되어 다중 프로세싱 실행에서 일관되고 재현 가능한 필름 증가를 보장합니다. 광학 방출 분광학 (optical emission spectroscopy) 및 질량 분석법 (mass spectrometry) 과 같은 실시간 프로세스 모니터링 도구는 플라즈마 화학 및 필름 증착 동역학에 대한 귀중한 통찰력을 제공하여 연산자가 최적의 필름 품질 및 성능을 위해 프로세스 매개 변수를 세밀하게 조정할 수 있습니다. PECVD 유닛 (PECVD Unit) 은 확산 용광로 외에도 다양한 액세서리와 주변 장비로 보완되어 다용도와 기능을 향상시킵니다. 이러한 액세서리에는 가스 절단 시스템, 로드 락 챔버, 로봇 웨이퍼 처리 시스템 및 증착 중 박막의 심층 특성화를위한 현장 도량형 도구가 포함될 수 있습니다. 전반적으로 CENTROTHERM PECVD 머신 (CENTROTHERM PECVD Machine) 은 생산 환경에서 고품질의 박막 증착을위한 정교하고 다양한 플랫폼을 나타냅니다. 고급 기능, 정밀 제어 기능, 신뢰성 있는 성능 등 반도체 제조 업체, 연구 기관, 생산 설비 (CCTV) 를 선택함으로써 뛰어난 영화 품질, 장치 성능을 제공하고자 합니다.