판매용 중고 CENTROTHERM E2000 HT 410-4 #9250379

CENTROTHERM E2000 HT 410-4는 와퍼 제작에서 진공 열 처리에 사용되는 최첨단 확산 로와 액세서리입니다. 이 용광로 는 "진공실 '과 저기압 을 생산 하고 유지 할 수 있는" 진공실' 을 갖춘 진공 환경 에서 사용 하도록 설계 되었다. CENTROTHERM E2000HT 410-4는 흑연 가열 요소와 함께 내화 전 열 존 (pre-heat zone) 을 사용하여 웨이퍼 온도를 빠르고 정확하게 제어합니다. 확산 구역 (diffusion zone) 은 균질하고 최적의 온도 프로파일을 보장하기 위해 가스의 분산 흐름을 제공하는 수직 석영 튜브 (vertical quartz tube) 로 구성됩니다. E2000-HT 410-4에는 가공 챔버 내부의 최적의 진공 압력을 유지하는 정밀도, 고압 컨트롤러가 장착되어 있습니다. 또한 동적 압력 모니터링 시스템 (Dynamic Pressure Monitoring System) 은 문제 해결 및 성능 최적화를 위해 정확한 성능 데이터를 지속적으로 기록합니다. CENTROTHERM E2000-HT 410-4는 한 번에 최대 4개의 웨이퍼를 처리할 수 있으며, 매우 정밀하고 낮은 온도의 작동을 위해 설계되었습니다. 25 ° C ~ 1600 ° C 범위의 온도를 제공 할 수 있으며, 기존의 불응기 기반 설계보다 최대 720 ° C 빠른 정밀 제어 온도를 제공 할 수 있습니다. 이 유연한 용광로는 또한 다양한 어플리케이션을 지원하기 위해 다양한 액세서리 (accessory) 를 제공합니다. 여기에는 진공/가스 혼합 장치, 뒤로 채워진 스테인리스 스틸 벨로우, 다중 구역 온도 컨트롤러, He-N2 가스 흐름 제어, 고급 절연기 및 다중 영역 온도 모니터링 도구가 포함됩니다. 또한, 퍼니스에는 흑연 서셉터, 기판 홀더 및 스테이지 전체에 균일 한 가스 분포를위한 비활성 가스 전달 에셋 (inert gas delivery asset) 이 제공됩니다. E 2000 HT 410-4는 안정적이고 고성능 확산 로와 액세서리로, 웨이퍼 제작에서 진공 열 처리 (vacuum thermal processing) 와 관련하여 놀라운 정밀도와 제어를 제공합니다. 초고정밀도 (ultra-high-precision) 를 달성하기 위한 훌륭한 도구이며, 다양한 프로세스와 온도를 처리하여 사용자가 열 처리 (thermal processing) 를 최대한 활용할 수 있도록 합니다.