판매용 중고 BRUCE BDF-2000 #9118484

BRUCE BDF-2000
ID: 9118484
LPCVD furnace.
BRUCE BDF-2000은 BRUCE, Inc.에서 제조 한 고급 확산 로와 액세서리입니다. 반도체 웨이퍼에 사용되는 폴리 실리콘 (polysilicon) 과 같은 재료의 고온 가공, 금속 화, 합금 및 금 도금 응용 분야에 이상적입니다. BDF-2000은 강력한 난방 용량, 고성능 단열재 및 작동 용이성을 갖추고 있습니다. 난방력 은 경쟁력 이 있는 제품 을 능가 하는 것 인데, 이것 은 신속 하고 완전 한 재료 처리 (processing of materials) 에 적합 하다. BRUCE BDF-2000의 최소 작동 온도는 1000 ° C이며, 효율적이고 정확하며 반복 가능한 프로세스를 제공합니다. BDF-2000은 사용자 친화적이고 효율적이도록 설계되었습니다. 용광로가 특정 온도, 저전압 운반 제한, 디지털 마이크로프로세서 제어 (digital microprocessor control) 에 도달하면 버저 (buzzer) 와 같은 다양한 안전 기능을 제공합니다. 이 에 더하여, 용광로 의 산화력 을 조정 할 수 있으므로, 용광로 가 원하는 온도 를 설정 할 수 있다. BRUCE BDF-2000 액세서리 (옵션) 에는 표면 처리, 리프팅 장비 및 여러 실리콘 크리스탈 플레이트가 포함됩니다. 표면 처리 액세서리는 웨이퍼 표면에서 균일성 (unifority) 과 변동 (non-variability) 을 보장하는 반면, 리프팅 장비는 정확한 위치 지정 및 안전한 로딩 및 언로드를 제공합니다. 또한 이러한 액세서리를 통해 확산 로를 효율적으로 사용하여 고급 (advanced) 제품을 만들 수 있습니다. BDF-2000 외에도 BRUCE, Inc.는 반도체 및 기타 재료 생산을위한 완전한 시스템을 제공합니다. 확산 용광로 (diffusion furnace) 는 광범위한 프로세스와 애플리케이션에 맞게 구성 및 확장 될 수 있습니다. 또한 BRUCE, Inc. 는 제품 데모 및 고객 서비스를 제공하여 자사 제품이 정확하고 안전하게 사용되도록 합니다. BRUCE BDF-2000은 효율적이고 안정적이며 사용자 친화적 인 확산 로와 액세서리입니다. 강력한 가열 용량, 고성능 단열재 (high performance insulation), 조절 가능한 산화 (oxidizing) 등의 기능을 통해 여러 프로세스에서 뛰어난 성능을 제공할 수 있습니다. BDF-2000에는 재료 처리를 더욱 쉽고 효과적으로 만드는 다양한 액세서리 (accessory) 가 함께 제공됩니다. BRUCE, Inc. 에서 제공하는 고품질, 신뢰할 수 있는 제품을 사용하면 BRUCE BDF-2000 이 최고의 성능과 결과를 얻을 수 있습니다.
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