판매용 중고 BENEQ P400A-034 #293830577
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ID: 293830577
Atomic Layer Deposition (ALD) system
Chamber
Gas/precursor manifold
Control enclosure
Norcimbus mini monitor
Plus gas-panel monitor
JULABO / FP 51
Refrigerated circulator
EDWARDS / iH600
Vacuum pump
Vacuum vessel
MKS mass-flow control
Intellisys IQ throttling valve
Laptop/process interface
Power supply: Rated 3×208 VAC + N + PE, 60 Hz.
BENEQ P400A-034는 반도체 재료에서 도펀트의 정확하고 균일 한 확산을 위해 설계된 최첨단 확산로 장비입니다. 이 고급 용광로 시스템 (Advanced Furnace System) 은 효율적이고 안정적인 확산 프로세스를 지원하는 다양한 액세서리 (Accessory) 와 기능을 갖추고 있어 반도체 업계의 연구와 생산에 필수적인 도구입니다. P400A-034 확산 로의 메인 챔버 (main chamber) 는 공정 전체에서 균일 한 온도 분포 및 열 안정성을 보장하는 고품질 재료로 구성됩니다. 이 방은 다양한 샘플 크기와 모양을 수용할 수 있으며, 다재다능하고 다양한 응용 분야에 적합합니다. "챔버 '내부 의 난방 요소 들 은 정확 한 온도 조절 을 제공 하도록 설계 되어 있어서, 사용자 들 은 고도 의 정확도 로 원하는 확산" 프로파일' 을 달성 할 수 있다. BENEQ P400A-034 확산 로의 주요 특징 중 하나는 고급 가스 전달 장치입니다. 이 기계는 가스 유량 (gas flow rate) 과 조성을 정확하게 제어하여 다른 도펀트 (dopant) 와 재료에 대한 최적의 확산 조건을 보장합니다. 가스 전달 도구 (Gas Delivery Tool) 에는 대량 흐름 컨트롤러, 압력 조절기 및 가스 혼합 기능이 포함되어 있으므로 특정 요구 사항에 맞게 맞춤형 가스 대기 (gas atmosphere) 를 만들 수 있습니다. 확산 과정을 더욱 향상시키기 위해 P400A-034 확산 로에는 정교한 온도 프로파일링 자산이 장착되어 있습니다. 이 모델을 사용하면 챔버 내부의 온도 그라디언트를 실시간으로 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 즉, 전체 샘플에 대해 균일 한 확산 프로파일 (diffusion profile) 을 확인할 수 있습니다. 온도 프로파일 링 장비는 데이터 로깅 및 분석을 위해 외부 소프트웨어 (external software) 와 상호 작용하여 확산 프로세스에 대한 귀중한 통찰력을 제공 할 수도 있습니다. 고급 기능 외에도 BENEQ P400A-034 확산 로에는 다양한 액세서리가 제공되어 기능을 더욱 향상시킵니다. 이 액세서리에는 샘플 취급을위한 쿼츠 (quartz) 및 실리콘 카바이드 보트 (silicon carbide boat) 와 샘플을 쉽게 적재 및 언로드하기위한 웨이퍼 캐리어 및 트레이가 포함됩니다. 또한, 용광로에는 운영 및 유지 보수 기간 동안 사용자 보호를 보장하는 안전 연동 시스템 (Safety Interlock System) 이 장착되어 있습니다. P400A-034 확산 로는 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 에 의해 제어되며, 이를 통해 확산 프로세스를 쉽게 작동하고 프로그래밍할 수 있습니다. 이 인터페이스에는 직관적인 컨트롤이 포함된 터치 스크린 디스플레이 (touchscreen display) 가 있어 사용자가 확산 실행을 설정하고 모니터링하는 것이 간단합니다. 퍼니스에는 또한 특정 요구 사항에 맞게 쉽게 액세스 및 수정 할 수있는 여러 사전 프로그램 된 확산 레시피 (diffusion recipe) 가 있습니다. 전반적으로, BENEQ P400A-034 확산 로는 반도체 업계의 확산 프로세스에 탁월한 성능과 신뢰성을 제공하는 최첨단 도구입니다. 첨단 기능, 정밀 제어 기능, 다재다능성을 갖춘 이 용광로 장치 (furnace unit) 는 연구실, 대학, 반도체 제조업체가 탁월한 도펀트 확산 결과를 얻기 위해 필수적인 자산입니다.
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