판매용 중고 ULTRATECH 1100 #9036435

ULTRATECH 1100은 반도체 웨이퍼 리소그래피 처리를 위해 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장비는 자동차, 항공 우주, 의료, 가전 등 많은 업계에서 생산성을 단순화하고 향상시킵니다. 이 장비는 X-Y 단계 (X-Y stage), 스캐너 (scanner), 시스템의 활동을 프로그래밍 및 제어하기위한 다양한 형태의 소프트웨어/사용자 인터페이스 등 여러 주요 구성 요소로 구성되어 있습니다. X-Y (X-Y) 스테이지는 스테이지에서 웨이퍼를 정확하게 배치하고, 스테이지의 속도와 방향을 제어합니다. 또한 X-Y (X-Y) 단계는 리소그래피 프로세스 동안 웨이퍼의 좌표와 움직임의 정확성을 제어합니다. X-Y 스테이지는 쿼츠 코팅 스테이지 플레이트를 사용하여 웨이퍼를 사용자 지정 패턴 (정밀도 약 0.1um) 에 정확하게 정렬할 수 있습니다. 광학 헤드 (optical head) 라고도 불리는 스캐너 (scanner) 는 웨이퍼에 처리할 설계 또는 패턴을 시각화합니다. 이 과정에는 수동 초점 렌즈 (manual focusing lens) 와 같은 매우 정확한 광학 (optics) 이 필요하며, 설계가 웨이퍼에 정확하게 적용되고 전달되도록 미세한 정확성이 필요합니다. 또한, 광학 헤드 (optical head) 부품은 빔 블랭킹 (beam blanking) 장치로 구성되며, 특정 영역의 웨이퍼에 패턴이 적용되지 않도록 합니다. 1100 웨이퍼 스테퍼는 통합 소프트웨어를 사용하여 작동되며, 이는 정렬 정확도, 빔 편향, 초점, 빔 노출 시간, 속도 설정 등 다양한 매개 변수를 제어하고 조정하는 데 사용됩니다. 명령어 (Instruction) 와 매개변수 (parameter) 는 리토그래피 작업을 수행할 수 있도록 소프트웨어에 입력됩니다. 대화형 그래픽 사용자 인터페이스 (interactive graphical user interface) 도 제공되며, 필요한 경우 장비를 수동으로 제어할 수 있도록 합니다. 수동 초점 렌즈에서 쿼츠 스테이지 플레이트까지, ULTRATECH 1100은 반도체 처리에 적합한 정교하고 안전한 리소그래피 경험을 제공합니다. 이 시스템은 정밀도가 0.1um 이하인 매우 정확한 웨이퍼 포토 리토 그래피 (wafer photolithography) 를 제공 할 수 있으므로 웨이퍼 리소그래피 프로세스에 이상적입니다.