판매용 중고 NIKON NSR SF200 #9220471
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ID: 9220471
웨이퍼 크기: 6"
KrF Stepper, 6"
Resolution: 150 nm
Handedness: Inline left or right
Altitude: Varies by site
Chamber type: Standard
Variable numerical aperture: Maximum 0.63
sPURE
RET Apertures iNA: 0.50, 0.38, 0.24, 0.19, 0.12, 0.38
Quick reticle change (QRC)
Reticle size: 6"
Field image alignment system (FIA)
Laser step alignment system (LSA)
Phase contrast FIA
TTLFC2
Pre-alignment 2
Wafer stage: Air bearing / Linear motors
Ceramic wafer holder
Wafer loader
Chip leveling included
Multipoint focus/level
NIKON SECS II GEM Interface
GIGAPHOTON KrF Excimer laser source
Options:
Resolution enhancement technology (RET)
Reticle barcode reader
Extended wafer carrier table
Pellicle particle detector
2003-2004 vintage.
NIKON NSR SF200은 반도체, MEMS 및 MOEMS 생산을 위해 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼 장비입니다. 다양한 광학 기능과 넓은 시야를 제공하여 복잡한 석판화 (lithography) 프로세스에 이상적입니다. NIKON NSR SF 200에는 스캐너 유형 감소 투사 렌즈와 초고해상도 정렬 센서가 장착되어 있습니다. NIKON 독점 광학 디자인을 사용하는 스캐너 유형 감소 투사 렌즈는 0.55 ~ 0.75의 수치 조리개 (NA) 를 제공하므로 고해상도 2580dpi를 5jm 전자기장 생성기 (FEG) 와 함께 제공합니다. 이렇게 하면 매우 복잡한 구조로 작업하는 경우에도 뛰어난 이미지 균일성 (image unifority) 과 웨이퍼 해상도를 얻을 수 있습니다. 이 시스템에는 또한 NIKON DMPS (Double Movable Proximity Stage) 및 결함 검사 알고리즘이 장착되어 있으므로 웨이퍼 및 리소그래피 마스크를 매우 정확하게 정렬할 수 있습니다. DMPS 기술은 웨이퍼 (wafer) 와 마스크 레벨 (mask level) 사이의 스티칭 문제를 제거하여 매우 정확한 리소그래피 프로세스를 제공합니다. 또한, 결함 검사 (Defect Inspection) 알고리즘을 사용하면 리소그래피 제작 중 웨이퍼를 스캔하고, 불규칙성 및 결함이 결함 증명에 도움이 되도록 모니터링할 수 있습니다. NSR SF200은 NIKON 독점 프로세스 제어 장치를 갖추고 있으며, 사용자에게 친숙한 운영, 고급 프로세스 정보 추적, 실시간 디버깅 등을 제공합니다. 프로세스 제어 기계는 패턴, 노출 매개변수, 선반가공 타이밍, 초점 등을 최적화하여 최고의 리소그래피 결과를 보장합니다. 또한, NSR SF 200에는 공랭식 도구가 장착되어 안정된 작동과 향상된 열 균일성을 제공합니다. 또한 Smart Recipe Master 소프트웨어를 제공하여 사용자는 자신의 레시피를 만들고 저장할 수 있으며, 다른 사용자와 레시피를 공유 할 수 있습니다. 결론적으로 NIKON NSR SF200 은 강력하고, 다재다능하며, 사용자 친화적 인 웨이퍼 스테퍼 (stepper) 자산으로, 수많은 광/공정 제어 기능을 갖춘 최신 반도체 제조 기능의 요구를 충족하도록 설계되었습니다.
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