판매용 중고 NIKON NSR SF120 #9290519

NIKON NSR SF120 Wafer Stepper는 고급 반도체 생산을위한 최첨단 웨이퍼 스테퍼입니다. 고급 리소그래피 (lithography), 검사 (inspection), 직접 쓰기 (direct write) 또는 전자 빔 리소그래피 (e-beam lithography) 와 같은 다양한 이미징 응용 프로그램 및 프로세스에서 높은 생산성을 구현하도록 설계되었습니다. 고급 NIKON 옵틱과 최신 장시간 투사 노출 기술을 활용하는 SF120은 탁월한 정확도, 정렬 속도, 초고화질 어플리케이션을 위한 최고 0.5 나노미터 (0.5 나노미터) 의 고해상도를 제공합니다. 듀얼 스테이지 웨이퍼 (Dual-Stage Wafer) 플랫폼은 활성 정렬 장비를 사용하여 최소한의 정렬 오류와 장기 웨이퍼 작동을 위한 매우 긴 노출 범위를 보장합니다. 다양한 최첨단 다기능 프로세스와 어플리케이션을 위한 완벽한 솔루션은 SF120 의 뛰어난 적응성과 모듈식 (modular) 설계입니다. NIKON NSR-SF120 Wafer Stepper는 다양한 반도체 생산 환경에 업계 최고의 기능을 제공합니다. 460 밀리미터 웨이퍼 스팬을 갖춘 SF120은 최대 0.2 미크론까지 반복 가능하고 정확한 오버레이 성능을 제공합니다. 솔리드 스테이트 레이저 광원은 안정적이고 높은 처리량을 제공하는 통합 노출 시스템 (Exposure System) 으로 설계되었습니다. 내장 자동 일치 장치 (Automatic Matching Unit) 는 기계 밸런스를 유지하므로 정렬 성능이 뛰어납니다. 또한 NSR SF 120 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 최대 0.4 나노미터의 고해상도를 갖춘 향상된 검사 도구를 제공하여 웨이퍼에서 정확한 장치 기능을 검사하는 데 이상적입니다. 또한 폭넓은 노출 범위 (Exposure Range) 와 현장 수정 (Field Correction) 기능을 자랑하며 복잡한 다중 패턴 및 직접 쓰기 리소그래피를 가능하게 하는 다양한 레티클을 지원합니다. NSR-SF120 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 사용이 간편하고 직관적인 제어 기능을 갖춘 사용자 친화적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 작업을 간소화하고 다운타임을 최소화합니다. 유연한 프로세스 환경을 갖춘 SF120 은 더 가벼운 웨이퍼 (wafer) 배송과 높은 처리량을 제공하여 운영자의 워크로드를 최소화합니다. 또한 고급 자산 관리 솔루션 (Advanced Asset Management Solution) 을 통해 스케줄을 관리하고, 패턴 특성을 추적하며, 실제 처리 결과를 모니터링할 수 있습니다. NIKON SF120 Wafer Stepper는 종합적인 지원 네트워크에 의해 지원되며, 우수한 품질 보증 및 오래 지속되는 성능을 제공합니다. 고급 소프트웨어 자산 (Advanced Software Asset) 을 통해 사용자는 최고 수준의 정확성과 신뢰성, 품질 생산 보장, 유지 보수 작업 거의, 시간 경과에 따른 비용 절감 등 신속하게 작업을 완료할 수 있습니다.