판매용 중고 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 #124470
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판매
ID: 124470
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1998
CVD system, 8"
System Configuration
Process: W-Si
(Qty 3) Chambers
Main Body
Additional Breaker Box
Process Kit
Footplate
Accessory Box
Mainframe Indexer
(Qty 2) Controller PC
Cable
Chiller
UPS
Power rack
Power distribution
Cable Cabinet
Chiller Hose
Missing Part: Motor Server Driver
Voltage: 208+/-10 VAC60HZ
Max Power: 70KVA
Water Pressure: 5kgf/cm2 (Max)
Water Flow: 0 L/min
Water Temp: 15~25℃
General EXH VOL: 3.8m3/min
Air≧6.0 kgf/cm2, 320 L/min
Earth Class 3 GND (ISOEATED)
Weight: 2800kg
Room Temp.: 20~25℃
Humidity: 40~50%
Gas configuration
2 (Oxidation): 1.5+/-0.3 kgf/cm2, 6L/min
N2 (Reduction Gas): 2.5+/-0.3 kgf/cm2, 125L/min
Ar: 1.5+/-0.3 kgf/cm2, 1500SCCM
WF6: -200+/-50mmHg, 1500SCCM
CIF3: -200+/-50mmHg, 1500SCCM
DCS: -200+/-50mmHg, 1500SCCM
1998 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 스퍼터링 장비는 다양한 응용을위한 복잡한 화학 조성을 가진 박막 형성에 사용되는 다용도 박막 증착 도구입니다. TEL MB2-730은 마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering) 을 사용하는데, 이는 자기 제한 플라즈마를 사용하여 물질을 기판에 침전시킵니다. 이 스퍼터링 (Sputtering) 프로세스는 제어성이 뛰어나며, 단순한 재료에서 복잡한 재료에 이르기까지 정확한 컴포지션 제어를 통해 박막 증착을 만들 수 있습니다. 각 챔버에서 목표물의 양과 유형을 제어함으로써, 광범위한 재료를 스퍼터 (sputter-deposited) 할 수있다. VARIAN MB2-730은 2 개의 1,000mm x 900mm 챔버로 구성됩니다. 첫 번째 챔버 인 스퍼터 챔버는 3 개의 원통형 마그네트론 목표를 사용하여 직류 (DC) 마그네트론 스퍼터링을 사용합니다. 두 번째 챔버 인 IOX/CVD 챔버는 무선 주파수 (RF) 마그네트론 스퍼터링을 사용하여 산화물 및 질화물 필름을 증착하고 화학 증기 증착 (CVD) 을위한 4 가지 대상을 갖습니다. 또한, 이 장치에는 분리 가능한 난방/냉각판이 있으며, 이는 증착 중 기판의 온도 조절을 가능하게한다. 이 판은 또한 증착을 더욱 통제 할 수 있도록 해 주며, 기계는 현장 열 처리 (in-situ thermal treatment) 와 빠른 어닐링 (annealing) 을 수행 할 수 있습니다. MB2-730 도구에는 증착 과정을 제어하는 완전 자동화 자산도 있습니다. TOKYO ELECTRON MB2-730은 20 개의 레시피를 갖춘 PPC (Programmable Process Controller) 를 갖추고 있으며 정확하고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 또한, 이 모델에는 PC 기반 GUI (Graphical User Interface) 가 장착되어 있어 배치 매개변수를 쉽고 직관적으로 제어할 수 있습니다. 결론적으로, VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 스퍼터링 장비는 복잡한 화학 성분을 가진 박막 제작에 적합한 도구입니다. 다용도 증착 프로세스, 온도 조절 기능 및 자동 제어 시스템 (Automated Control System) 은 다양한 박막 증착 애플리케이션에 적합합니다.
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