판매용 중고 ULVAC Entron #9082796

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ULVAC Entron
판매
ID: 9082796
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Sputtering system, 12", 2007 vintage.
ULVAC Entron (ULVAC Entron) 은 뛰어난 광학, 전기 및 기계적 특성을 가진 박막 증착에 사용되는 고성능 스퍼터링 장비입니다. 반도체산업 (반도체산업) 과 고품질 박막 (박영화) 이 필요한 분야에 특별히 사용되도록 제작됐다. Entron은 두 가지 주요 구성 요소 (스퍼터 건과 증착실) 로 구성됩니다. 스퍼터 건 (Sputter gun) 은 재료 목표물에 활기 넘치는 이온을 직접 발사하여 대상 재료의 원자를 치환하고 목표 표면에서 분리하고 원하는 기판에 퇴적시킨다. 이 과정을 물리적 증기 증착 (PVD) 이라고합니다. 증착실 (deposition chamber) 은 재료 필름의 적절한 목표 선택, 프로세스 조건 및 균일성에 필요한 환경을 제공합니다. 이 시스템에는 씬 필름 (Thin Film) 의 품질을 향상시키는 여러 가지 다른 기능 (예: 조정 가능한 빔 스팟 크기 및 조절 가능한 빔 에너지) 이 포함되어 있습니다. 조정 가능한 빔 스팟 (beam spot) 크기를 사용하면 개별 입자 증착의 크기를 선택할 수 있으며, 조절 가능한 빔 에너지 (beam energy) 를 제어하여 필름의 균일성과 접착 특성을 최적화 할 수 있습니다. 이 장치에는 목표물과 기판 인-사이트 (in-situ) 를 가열하기 위해 옵션 용광로가 장착 될 수도 있습니다. ULVAC 엔트론 (ULVAC Entron) 은 강력하고 신뢰할 수있는 기계로, 여러 레이어 필름, 다른 두께의 필름 또는 다른 재료의 필름과 같은 다양한 복잡한 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 프로세스 자동화 및 제어를 극대화할 수 있는 여러 제어 시스템 (Control System) 이 장착되어 있어 프로세스의 반복성과 재현성을 보장합니다. 엔트론 (Entron) 은 다양한 맞춤형 기능을 갖춘 고급 툴로, 스퍼터링 (sputtering) 자산을 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 고효율의 저온 이온 폭격 프로세스는 고품질의 박막 (Thin Film) 의 증착을 보장하며 상업 및 산업 공정 모두에 적합합니다. 고급 기능으로, 뛰어난 박막 (Thin Film) 결과를 달성하려는 모든 사람에게 훌륭한 선택입니다.
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