판매용 중고 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9012938

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ULVAC Ceraus ZX-1000
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ID: 9012938
Sputtering system.
ULVAC Ceraus ZX-1000 스퍼터링 장비는 다양한 응용 프로그램을위한 박막을 입금하기 위해 설계되었습니다. 스퍼터링 (sputtering) 과정을 사용하여 아르곤 (argon) 과 같은 비활성 기체가 이온화되어 입자를 대상 물질에서 분출하여 기판에서 수집 할 수있다. 스퍼터링 시스템은 금속, 반도체, 절연체 및 투명 도체와 같은 다른 물질을 퇴적시키는 데 사용될 수있다. ULVAC CERAUS ZX 1000 스퍼터링 장치는 증착실, 2 개의 스퍼터 건, 2 개의 마그네트론, 증착실 배기 및 진공 관련 구성 요소로 구성됩니다. 2 개의 스퍼터 건은 증착실의 반대편에 분리되어 있으며, 프로세스를 볼 수있는 3 개의 170mm 바이어스 대상, 1 개의 원통형 자기 필터 및 석영 창을 갖추고 있습니다. 이것 은 다른 물질 의 이중 증착 을 허용 하며, 자기 "필터 '는 증착 으로부터" 미크론' 입자 를 제거 한다. 2 개의 마그네트론은 스퍼터링 공정의 힘을 조정하도록 제어되며, 증착실 배기 (deposition chamber exhaust) 는 짧은 기간 내에 챔버를 대피 할 수 있습니다. Ceraus ZX-1000 스퍼터링 머신은 DC Magnetron 전원 공급 장치를 사용하여 아르곤 가스와 기판 히터를 이온화하여 전열 처리를 수행합니다. 기판 히터는 또한 개선 된 필름 특성을 갖는 더 높은 기판 온도를 유지하기 위해 사용된다. 공구의 제어 소프트웨어를 사용하면 필요에 따라 프로세스 매개변수를 모니터링하고 조정할 수 있습니다. CERAUS ZX 1000 스퍼터링 자산은 재현 가능한 속성을 갖춘 신뢰할 수 있고 균일 한 필름을 제공합니다. 이 모델은 넓은 면적과 작은 기판의 높은 처리량을 가진 스퍼터링 기판에 이상적입니다. 견고한 설계 및 MF 전원 사용은 장비의 안정적이고 효율적인 작동을 제공합니다. 이 시스템은 프로세스 매개변수를 월등히 제어하여 탁월한 균일성 (unifority) 과 높은 필름 재현성을 제공합니다. ULVAC Ceraus ZX-1000 스퍼터링 장치는 생산 응용 프로그램뿐만 아니라 연구 개발에 적합합니다.
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