판매용 중고 MRC 603 II #9011265

MRC 603 II는 Applied Materials의 고급 스퍼터링 장비입니다. 모듈식 설계 (modular design) 를 활용하여 유연성과 확장성을 제공하여 고객이 특정 요구 사항과 요구 사항에 맞게 시스템을 조정할 수 있도록 합니다 (영문). 이 장치에는 플랫 및 곡선 기판에 최대 18 개의 증착 대상을 제공 할 수있는 단일 소스, 직류 스퍼터링 소스 (DCSS) 와 동일한 가공소재에서 최대 3 개의 증착 대상을 제공 할 수있는 제논 (Xenon) 짧은 펄스 소스가 포함됩니다. MRC 603-II (MRC 603-II) 는 높은 처리량을 제공하여 광학 필터와 같은 섬세한 기판을 처리하고 넓은 영역 기판을 처리 할 수 있습니다. 이 머신은 프로세스 반복 (process repeatability) 기능과 더불어 뛰어난 엔드포인트 감지 기능을 제공하여 프로세스 복잡성과 상관없이 일관되고 높은 품질의 결과를 제공할 수 있습니다. 또한 603 II에는 단일 대상, 순차 대상, 다중 대상, 균일 한 스퍼터 계층 (sputter layer) 을 제어하는 기능이 있는 고급 자동 프로세스 제어 도구가 포함되어 있습니다. 이를 통해 복잡한 프로세스 중에도 프로세스 조건 및 기판 균일성이 유지됩니다. 또한 부하 잠금 (load-lock) 기능을 통해 기판을 쉽고 안전하게 전송할 수 있으며, 대규모 어플리케이션용 Clean-room 호환 롤스루 (roll-through) 및 모듈식 시스템 (옵션) 도 사용할 수 있습니다. 이 자산은 디지털 주사기 제어 시스템과도 호환성이 뛰어나 초고속 (ultra-fine) 커버리지 제어가 가능합니다. 통합 측정 모델을 사용하면 증착률 및 끝점 감지를 모니터링 할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 실시간 레시피 제어를 통해 프로세스가 일관되고 반복 가능하도록 합니다. 603-II는 높은 처리량, 반복성, 균일성을 요구하는 도구에 대한 탁월한 선택입니다. 고품질 필름을 필요로 하는 고급 어플리케이션을 위해 설계되었으며 평면 패널 디스플레이, 반도체, MEMS, 광학, 데이터 스토리지 등 다양한 스퍼터링 어플리케이션에 적합합니다.