판매용 중고 BUHLER / LEYBOLD OPTICS Star #9244433
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ID: 9244433
Sputtering system
Loading capacity: (2) Pair of lenses
Maximum substrate Ø: 80 mm / 3.15"
Process gases: N2, O2, Ar
Remote access: LAN / WLAN / Air card
Cycle time (4-Layer AR): 10 min
Sputter target: Silicon (Si)
Sputter power supply: DC Pulsed
Sputter rate SiO2: 1.2 - 2.0 nm/s
Sputter rate Si3N4: 0.7 - 1.2 nm/s
Includes:
LEYBOLD OPTICS PK150 Cathode
Electrical cabinet
Sputter cathode
Substrate lift device
Substrate rotary drive
Turbo pump
Water chiller
Mechanical pump
Handling system
Gate valve
Shutter
Cathode: Swiveled 90° up
Operator terminal
With touch screen interface
Process chamber / Load lock
With entry load lock chamber
Electrical supply:
Electrical cabinet
Power supply for sputter source
Media supply:
Process gasses
Water chiller
Power and compressed air.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS Star는 평평하고 구부러진 표면에 박막 코팅을 입히도록 설계된 고정밀 진공 기반 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 +/- 6mm 범위와 0.5mm (스텝 해상도) 의 뛰어난 기판-목표 거리 조정을 제공합니다. 또한 3 개의 개별 채널이있는 고급 폐쇄 루프 피드백 (closed-loop feedback) 장치를 통합하여 스퍼터링 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 기계는 자동화된 프로세스가있는 높은 진공 챔버 (vacuum chamber) 를 사용하여 효율적이고 안전한 작동을 허용합니다. 최대 스퍼터링 압력은 1mbar이며 공구는 터보 분자 펌프 (turbo molecular pump) 를 사용하여 압력을 유지합니다. 챔버 온도는 0.1 ° C 정확도로 -30 ° C ~ 150 ° C 범위로 유지됩니다. 자산은 효율적인 필름 증착을 위해 '마그네트론 기반' 스퍼터링 소스 및 '다이오드 기반' 스퍼터링 소스를 사용합니다. 두 소스 모두 조정 가능한 스퍼터 레이트 및 펄스 지속 시간을 허용하여 높은 정확도 증착을 허용합니다. 또한 비스듬히 스퍼터링 된 침전물을 위해 목표를 기울일 수 있습니다 (± 20 °). 이 모델에는 스퍼터 레이트 (sputter rate) 및 필름 두께를 측정하는 고급 현장 모니터링 장비도 포함되어 있습니다. in-situ 모니터는 레이저 기반 기술을 사용하여 기판의 필름 두께를 밀리초 단위로 측정합니다. 또한, 시스템은 연속 스퍼터링 동안 조성을 실시간으로 측정하기 위해 가로 나선 이중 피팅 (transverse spiral dual fitting) 기술을 사용하여 대상 내 화학 조성 분석과 통합 될 수있다. 이 장치는 단일 또는 다중 위치 (multi-position) 모드로 작동하도록 설계되어 여러 기판에서 동시에 증착할 수 있습니다. 또한 스퍼터 (sputter) 와 이온 빔 (ion beam) 소스를 번갈아 가며 순차적 층 증착에도 사용할 수 있습니다. 또한 컴퓨터의 모듈성을 통해 부하/언로드 스테이션 (load/unload station) 과 같은 추가 구성 요소를 쉽게 통합하여 효율성 및 처리량을 높일 수 있습니다. BUHLER Star는 특히 광학, 전자 및 항공 우주와 같은 산업에서 심층적 인 정밀 스퍼터 코팅의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 도구는 안정적이고 사용하기 쉽고, 필름 증착에 이상적인 플랫폼을 제공합니다.
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