판매용 중고 BALZERS LLS EVO #9015975

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BALZERS LLS EVO
판매
ID: 9015975
Sputtering system Substrate: 4" (36 pcs) 6", (12 pcs) holder HV pump: CTI 8F OnBoard (LC / MC) Rough pump: TRIVAC D 65B (LC / MC) Polycold type: PFC 400 LT HV valve: VAT 014 2-POINT (LC), VAT 064 3-POINT (MC) Vent valve: VAP 025 / VAP040, Soft vent MFC 5 slm [N2] Heater: Heater shutter (LC) Etching in LC: RF sputter etch Electrical: 3 x 400 VAC, 60 Hz Power supplies: # 1, 2: DC 6 kW # 3: RF 2.5 kW Cathodes: Power supply #1: 1, 3 Power supply #2: 4, 5 Power supply #3: etch, 2 Target material: Ta: 1 SiO2: 2 Ta: 3 AlCu: 4 NiCr: 5 Manual handling Accessories: Second set of shields Second set of substrate tooling.
BALZERS LLS EVO는 고급 박막 응용 연구를 위해 설계된 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 박막의 증착, 에칭, 패턴화와 같은 혁신적인 프로세스 솔루션을 제공합니다. 반도체, 금속, 절연체 등 다양한 재료, 용도에 적합합니다. LLS EVO (LLS EVO) 는 다양한 스퍼터링 및 에칭 프로세스를 제공하는 고급 소프트웨어를 갖춘 다용도 시스템입니다. 다양한 스퍼터링 프로세스를 충족하기 쉽고, 사용자 정의가 가능합니다. 이 장치에는 큰 챔버 (chamber) 기능이 있으며, 이를 통해 사용자는 넓은 지역에 걸쳐 매우 균일 한 필름을 달성 할 수 있습니다. BALZERS LLS EVO 스퍼터링 머신 (sputtering machine) 의 원리는 더 나은 표면적 및 더 낮은 온도 처리를 제공하기 위해 가스 상 프로세스를 활용하는 것입니다. 이 과정 은 "아르곤 '," 크립톤', 질소 및 "제논 '과 같은 비활성" 가스' 를 약실 에 도입 함 으로써 달성 된다. 이 가스는 챔버에서 약 700m/s로 가속되고 스퍼터링 목표와 충돌합니다. 이것 은 표적 을 충전 시키고 비활성 "가스 '를 이온화 시켜서" 스퍼터링' 이 시작 되고 "필름 '이 기판 에 증착 되는 전기" 플라즈마' 를 만든다. LLS EVO 스퍼터링 도구는 매우 높은 품질과 균일성을 가진 영화를 제공 할 수 있습니다. 또한 표적 재료 및 적용 중인 코팅 (coating) 유형에 따라 다른 속도로 필름을 증착할 수 있습니다. 그 자산 은 특정 한 "응용프로그램 '의 수요 를 충족 시키기 위하여 증착율 을 변화 시킬 수 있도록 설계 되었다. BALZERS LLS EVO는 또한 매우 정밀하게 박막을 제작할 수있는 기능을 제공합니다. 예를 들어, 원자 층 증착 (ALD) 공정은 높은 증착률과 뛰어난 필름 품질을 가진 매우 균일 한 박막 (thin film) 을 허용합니다. 또한, 모델과 관련된 광학 및 터널링 현미경 (optical and tunneling microscopy) 은 표면 및 인터페이스 구조를 정확하고 정확하게 모니터링 할 수 있습니다. 요약하자면, LLS EVO 스퍼터링 장비는 박막 연구 및 개발을위한 강력한 도구입니다. 다양한 종류의 스퍼터링 (sputtering) 및 에칭 (etching) 프로세스를 제공하고 균일하고 고품질의 박막 (Thin film) 을 보장하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 또한 고급 소프트웨어 (advanced software) 를 갖추고 있으며 정밀도가 높은 박막 (thin film) 을 제작할 수 있습니다.
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