판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9055225

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AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA
판매
ID: 9055225
웨이퍼 크기: 8"
Sputtering system, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor는 반도체 재료 생산에 전념하는 고품질의 고성능 챔버입니다. 원자로는 화학 증기 증착 (CVD) 으로 시작하는 공정의 필수 부분으로 설계된다. 높은 증착율, 낮은 입자 수, 작은 챔버 (chamber) 볼륨의 독특한 조합을 제공하여 빠른 트랜지스터 제작에서 가장 높은 수율을 보장합니다. AMAT ENDURA Reactor는 진공 실과 외부 가스 전달 장비로 구성됩니다. 챔버 (chamber) 설계를 통해 챔버 내에서 화학 반응을위한 가스 조합을 전달 할 수있다. "가스 '의 전달 은 난류 를 제거 하고, 균일성 을 극대화 하고, 입자 수 를 최소한 유지 하도록 설계 되었다. 배송 시스템 (Delivery System) 은 또한 높은 압력과 저압 조건을 통해 프로세스 성능 및 수율을 최적화할 수 있도록 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor는 온도 균일성을 최대화하도록 설계되었습니다. 이중 웨이퍼 형상 (Dual Wafer Geometry) 은 최대 처리량 및 낮은 스크랩 속도를 위해 가장 균일한 열 강착률 (Thermal Deposition Rate) 및 최적의 온도 분배를 가능하게하도록 설계되었습니다. 엔두라 원자로 (ENDURA Reactor) 에는 챔버와 웨이퍼의 빠른 가열을 보장하는 강력한 가열 요소도 있습니다. 그 결과 "웨이퍼 '에 박막 이 급속 히 증가 하고" 반도체' 장치 의 생산 에 고도 의 증착율 이 생긴다. 강력한 난방 요소와 직접 공기 냉각 시스템 (direct air-cooling systems) 의 조합은 챔버의 빠른 냉각을 보장하여 순수한 균일 한 필름의 성장을 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor에는 최첨단 모니터링 장치도 장착되어 있습니다. 기계는 가공 가스의 챔버 온도, 압력, 순도, 입자 수, 유속을 실시간으로 모니터링 및 제어합니다. 이를 통해 공정 수율과 정확도가 가장 높습니다. 모니터링 툴은 프로세스 제어 시스템 (process control systems) 과 상호 작용하고 프로세스 성능에 대한 피드백을 제공합니다. AMAT ENDURA Reactor는 고품질의 고성능 반도체 재료 생산에 이상적인 챔버입니다. 첨단 기술과 최첨단 안전 시스템 (최첨단 안전 시스템) 으로 설계되어 최적의 프로세스 성능과 생산성을 보장합니다. 이 챔버는 반도체 제조에서 최고 품질과 효율성을 보장합니다.
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